[发明专利]一种工艺腔室的压力控制方法和装置有效
| 申请号： | 201510309750.1 | 申请日： | 2015-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN104991581B | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 马平 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G05D16/20 | 分类号： | G05D16/20 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 赵娟 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请实施例提供了一种工艺腔室的压力控制方法，其中，所述的方法包括：获取所述工艺腔室的压力偏差值；若所述压力偏差值小于预设阈值，则读取所述工艺腔室的当前压力值；当所述工艺腔室的当前压力值不等于预设的目标压力值与所述压力偏差值之和时，调整所述工艺腔室的压力。本申请实施例在压力偏差值处于可接受的范围时，根据所述工艺腔室的当前压力值、预设的目标压力值以及压力偏差值三者之间的关系，调整所述工艺腔室的压力，从而实现了在工艺规可能存在偏差的情况下，准确地控制了工艺腔室的压力，使工艺腔室的压力达到目标压力，而且，无需对工艺规进行硬件调零，避免了造成工艺规的损耗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 工艺 压力 控制 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种工艺腔室的压力控制方法，其特征在于，包括：获取与所述工艺腔室相连的工艺规的压力偏差值，所述压力偏差值为所述工艺规读取的压力值与标准工艺规读取的压力值的差值；若所述压力偏差值小于预设阈值，则读取所述工艺腔室的当前压力值；当所述工艺腔室的当前压力值不等于预设的目标压力值与所述压力偏差值之和时，调整所述工艺腔室的压力。
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