[发明专利]一种工艺腔室的压力控制方法和装置有效
申请号: | 201510309750.1 | 申请日: | 2015-06-08 |
公开(公告)号: | CN104991581B | 公开(公告)日: | 2019-08-23 |
发明(设计)人: | 马平 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | G05D16/20 | 分类号: | G05D16/20 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 赵娟 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 工艺 压力 控制 方法 装置 | ||
1.一种工艺腔室的压力控制方法,其特征在于,包括:
获取与所述工艺腔室相连的工艺规的压力偏差值,所述压力偏差值为所述工艺规读取的压力值与标准工艺规读取的压力值的差值;
若所述压力偏差值小于预设阈值,则读取所述工艺腔室的当前压力值;
当所述工艺腔室的当前压力值不等于预设的目标压力值与所述压力偏差值之和时,调整所述工艺腔室的压力。
2.根据权利要求1所述的工艺腔室的压力控制方法,其特征在于,所述获取与所述工艺腔室相连的工艺规的压力偏差值的步骤包括:
从所述工艺规读取所述工艺腔室的测试压力值;
依据所述测试压力值与预设的标准压力值,计算与所述工艺腔室相连的工艺规的压力偏差值。
3.根据权利要求2所述的工艺腔室的压力控制方法,其特征在于,所述依据所述测试压力值与预设的标准压力值,计算所述工艺腔室的压力偏差值的子步骤进一步包括:
计算所述测试压力值与预设的标准压力值的差值;
将所述差值设置为所述工艺腔室的压力偏差值。
4.根据权利要求2所述的工艺腔室的压力控制方法,其特征在于,所述依据所述测试压力值与预设的标准压力值,计算所述工艺腔室的压力偏差值的子步骤进一步包括:
构建所述测试压力值与预设的标准压力值之间的拟合关系函数;
根据所述拟合关系函数,计算在所述预设的标准压力值为特征值时得到的预测压力值;
计算所述预测压力值与所述标准压力值的差值;
将所述差值设置为所述工艺腔室的压力偏差值。
5.根据权利要求1所述的工艺腔室的压力控制方法,其特征在于,所述若所述压力偏差值小于预设阈值,则获取所述工艺腔室的当前压力值的步骤包括:
若所述压力偏差值小于预设阈值,则从所述工艺规读取所述工艺腔室的当前压力值。
6.根据权利要求1所述的工艺腔室的压力控制方法,其特征在于,还包括:
若所述压力偏差值大于或者等于预设阈值时,则触发报警。
7.根据权利要求1所述的工艺腔室的压力控制方法,其特征在于,所述当所述工艺腔室的当前压力值不等于预设的目标压力值与所述压力偏差值之和时,则调整所述工艺腔室的压力的步骤包括:
当所述工艺腔室的压力值小于预设的目标压力值与所述偏差值之和时,增加所述工艺腔室的压力;
当所述工艺腔室的压力值大于预设的目标压力值与所述偏差值之和时,减少所述工艺腔室的压力。
8.一种工艺腔室的压力控制装置,其特征在于,包括:
压力偏差值获取模块,用于获取与所述工艺腔室相连的工艺规的压力偏差值,所述压力偏差值为所述工艺规读取的压力值与标准工艺规读取的压力值的差值;
当前压力值读取模块,用于若所述压力偏差值小于预设阈值,则读取所述工艺腔室的当前压力值;
压力调整模块,用于当所述工艺腔室的当前压力值不等于预设的目标压力值与所述压力偏差值之和时,调整所述工艺腔室的压力。
9.根据修改后的权利要求8所述的工艺腔室的压力控制装置,其特征在于,所述压力偏差值获取模块包括:
测试压力值读取子模块,用于从所述工艺规读取所述工艺腔室的测试压力值;
压力偏差值计算子模块,用于依据所述测试压力值与预设的标准压力值,计算与所述工艺腔室相连的工艺规的压力偏差值。
10.根据权利要求9所述的工艺腔室的压力控制装置,其特征在于,所述压力偏差值计算子模块进一步包括:
第一差值计算单元,用于计算所述测试压力值与预设的标准压力值的差值;
第一设置单元,用于将所述差值设置为所述工艺腔室的压力偏差值。
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