[发明专利]栅极层上的对位标记的制作方法

摘要

本发明提供一种栅极层上的对位标记的制作方法，通过在栅极层的光罩上设计两组栅极层对位标记，正常制程中只曝光形成第一组栅极层对位标记用于后制程的对位曝光，当栅极铜膜需要重工时，则同时曝光形成两组栅极层对位标记，再次形成的第一组栅极层对位标记旁具有印记，而第二组栅极层对位标记旁无印记，在后制程中采用第二组对位标记进行对位曝光，从而不影响后制程的对位曝光。

主权项

一种栅极层上的对位标记的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供基板；步骤2、在所述基板上沉积金属层，将该金属层定义为栅极层；步骤3、提供对应于所述栅极层的光罩，所述光罩上设有第一组对位标记及第二组对位标记，利用遮光板遮住第二组对位标记，应用所述光罩在栅极层上形成相应的栅极及第一组栅极层对位标记(11)；步骤4、检验测得所述步骤3制得的产品不良；步骤5、将经过步骤3后的金属层蚀刻掉，步骤3中形成的第一组栅极层对位标记(11)在基板上留有印记(11’)，重新在所述基板上沉积金属层，将该金属层定义为栅极层；步骤6、不遮住所述光罩上的第二组对位标记，应用所述光罩在栅极层上形成相应的栅极、第三组栅极层对位标记(21)、及第二组栅极层对位标记(22)；所述步骤1中，所述基板为玻璃板；所述步骤2中，所述金属层为铜层；所述步骤5中，所述重新在所述基板上沉积的金属层为铜层；所述步骤5中，蚀刻液是由氢氟酸(HF)和双氧水(H2O2)混合配比而成。