[发明专利]使用有机薄膜形成用固体物的有机薄膜叠层体制造方法有效
申请号: | 201510259491.6 | 申请日: | 2011-11-07 |
公开(公告)号: | CN104858120A | 公开(公告)日: | 2015-08-26 |
发明(设计)人: | 浅沼大右;肥高友也 | 申请(专利权)人: | 日本曹达株式会社 |
主分类号: | B05D7/24 | 分类号: | B05D7/24;B32B27/00;C08G77/06;C08G79/00;C09D183/04;C09D185/00 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;尹明花 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在低级醇类溶剂中,在反应液中浓度为0.5~5质量%的水、和酸的存在下,使式(I)所示的至少1种有机金属化合物水解和/或缩合,制造有机薄膜形成用固体物或油状物。在有机溶剂中溶解所得到的固体物或油状物,使基板接触所得到的溶液,能够在基板上形成高功能的有机薄膜,R1nMXm-n (I)。 | ||
搜索关键词: | 使用 有机 薄膜 形成 固体 体制 方法 | ||
【主权项】:
一种有机薄膜叠层板的制造方法,其特征在于,包括:工序(A):在包含选自脂肪族醚类溶剂和脂肪族酮类溶剂中的至少1种且不包含低级醇类溶剂的溶剂中,相对于1摩尔的式(I)所示的有机金属化合物,在0.1摩尔~20摩尔的水、和酸的存在下,在室温,使式(I)所示的至少1种有机金属化合物水解和/或缩合的工序,R1nMXm‑n (I)式中,R1表示CH3(CH2)9‑、CH3(CH2)10‑、CH3(CH2)11‑、CH3(CH2)12‑、CH3(CH2)13‑、CH3(CH2)14‑、CH3(CH2)15‑、CH3(CH2)16‑、CH3(CH2)17‑、CH3(CH2)18‑、CH3(CH2)19‑、CH3(CH2)20‑、CH3(CH2)21‑、CH3(CH2)22‑、CH3(CH2)23‑、CH3(CH2)24‑、CH3(CH2)25‑、CF3(CH2)2‑、CF3(CF2)3(CH2)2‑、CF3(CF2)5(CH2)2‑、CF3(CF2)7(CH2)2‑、或CF3(CF2)7(CH2)2‑,M表示选自Si、Ge、Sn、Ti和Zr中的至少1种金属原子,X表示羟基或水解性基团,n表示1~(m‑1)中的任意整数,m表示M的化合价,n为2以上时,R1可以相同或不同,(m‑n)为2以上时,X既可以相同,也可以不同;工序(B):浓缩干燥固化工序(A)的反应液,得到固体成分的工序;工序(C):将在工序(B)得到的固体物与选自烃类溶剂、氟类溶剂和硅类溶剂中的至少1种溶剂混合,根据需要,除去不溶成分,得到有机薄膜形成溶液的工序;工序(D):使基板与在工序(C)得到的有机薄膜形成溶液接触,制造叠层有有机薄膜的基板的工序,所述有机薄膜为单分子膜。
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