[发明专利]使用有机薄膜形成用固体物的有机薄膜叠层体制造方法有效

专利信息
申请号: 201510259491.6 申请日: 2011-11-07
公开(公告)号: CN104858120A 公开(公告)日: 2015-08-26
发明(设计)人: 浅沼大右;肥高友也 申请(专利权)人: 日本曹达株式会社
主分类号: B05D7/24 分类号: B05D7/24;B32B27/00;C08G77/06;C08G79/00;C09D183/04;C09D185/00
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳;尹明花
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 使用 有机 薄膜 形成 固体 体制 方法
【权利要求书】:

1.一种有机薄膜叠层板的制造方法,其特征在于,包括:

工序(A):在包含选自脂肪族醚类溶剂和脂肪族酮类溶剂中的至少1种且不包含低级醇类溶剂的溶剂中,相对于1摩尔的式(I)所示的有机金属化合物,在0.1摩尔~20摩尔的水、和酸的存在下,在室温,使式(I)所示的至少1种有机金属化合物水解和/或缩合的工序,

R1nMXm-n   (I)

式中,R1表示CH3(CH2)9-、CH3(CH2)10-、CH3(CH2)11-、CH3(CH2)12-、CH3(CH2)13-、CH3(CH2)14-、CH3(CH2)15-、CH3(CH2)16-、CH3(CH2)17-、CH3(CH2)18-、CH3(CH2)19-、CH3(CH2)20-、CH3(CH2)21-、CH3(CH2)22-、CH3(CH2)23-、CH3(CH2)24-、CH3(CH2)25-、CF3(CH2)2-、CF3(CF2)3(CH2)2-、CF3(CF2)5(CH2)2-、CF3(CF2)7(CH2)2-、或CF3(CF2)7(CH2)2-,

M表示选自Si、Ge、Sn、Ti和Zr中的至少1种金属原子,

X表示羟基或水解性基团,

n表示1~(m-1)中的任意整数,m表示M的化合价,n为2以上时,R1可以相同或不同,(m-n)为2以上时,X既可以相同,也可以不同;

工序(B):浓缩干燥固化工序(A)的反应液,得到固体成分的工序;

工序(C):将在工序(B)得到的固体物与选自烃类溶剂、氟类溶剂和硅类溶剂中的至少1种溶剂混合,根据需要,除去不溶成分,得到有机薄膜形成溶液的工序;

工序(D):使基板与在工序(C)得到的有机薄膜形成溶液接触,制造叠层有有机薄膜的基板的工序,

所述有机薄膜为单分子膜。

2.如权利要求1所述的有机薄膜叠层板的制造方法,其特征在于:

在工序(A)和工序(B)的中间,设置中和所述酸的工序。

3.如权利要求1或2所述的有机薄膜叠层板的制造方法,其特征在于:

在工序(A)中,进行至少48小时的水解或缩合。

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