[发明专利]一种在线监控栅氧化层完整性的方法在审

专利信息
申请号: 201510216570.9 申请日: 2015-04-30
公开(公告)号: CN104900556A 公开(公告)日: 2015-09-09
发明(设计)人: 周柯;尹彬锋;赵敏 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;H01L23/544
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 智云
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种在线监控栅氧化层完整性的方法,不需要重新设计大面积的测试结构,不牺牲量产品上的面积,不需要额外投片用于工艺产品监控,节省了成本;以大于或等于根据上述方法获得的最小样本数进行栅氧化层完整性测试,且测试中每个GOI测试结构仅测试预定失效模式电压下的单点电流值,测试速度很快,对量产品排队时间Q-time不会造成影响;由于是针对当前工艺一段时间内量产品上GOI测试结构的数据收集,所以能够帮助准确判断当前工艺某一区间内量产品的栅氧缺陷的问题,及时发现栅氧化层完整性的可靠性问题,实现了在线实时监控并及时发现问题的作用。
搜索关键词: 一种 在线 监控 氧化 完整性 方法
【主权项】:
一种在线监控栅氧化层完整性的方法,其特征在于,包括:根据设定的采样频率以及缺陷密度规格,获得用于监控分析的最小采样数量;选取大于或等于所述最小采样数量的量产品作为用于监控分析的量产品样本,所述量产品本的切割道上设置有GOI测试结构;按照所述采样频率从每个量产品样本上选取GOI测试结构,对每个GOI测试结构施加预定失效模式的电压,分别量测出每个GOI测试结构在预定失效模式的电压下的栅电流值;将量测出的所有栅电流值与电流标准比对,评估所述量产品样本所在的当前工艺是否存在栅氧化层完整性问题。
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