[发明专利]1×2高效率反射式光栅有效
| 申请号： | 201510165518.5 | 申请日： | 2015-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN104777537B | 公开（公告）日： | 2017-03-15 |
| 发明（设计）人： | 王津;周常河;麻健勇;曹红超;卢炎聪;李民康;项长铖 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司31213 | 代理人： | 张泽纯,张宁展 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种中心波长为1064纳米TE偏振的1×2高效率反射式光栅，其结构为熔融石英基底上依次镀上铬膜、金膜和熔融石英膜，在熔融石英膜层上刻蚀矩形槽光栅，未被刻蚀的熔融石英膜层为连接层，光栅周期为2304～2308纳米，占空比为0.34～0.36，光栅深度为570～590纳米，连接层厚度133～143纳米。本发明在TE偏振光垂直入射时，可以实现中心波长1064纳米消零级且±1级衍射效率高于96％。本发明可以由多光束激光并行直写装置结合自感应耦合等离子深刻蚀工艺以及镀膜技术加工而成，取材方便，加工简单，具有重要的实用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 高效率 反射 光栅 | ||
【主权项】：
一种中心波长1064纳米波段TE偏振的1×2高效率反射式光栅，特征在于其结构为熔融石英基底(4)上依次分别镀20纳米铬膜(3)、122纳米金膜(2)和熔融石英膜(1)，在熔融石英膜(1)上刻蚀矩形槽光栅，未被刻蚀的熔融石英膜层为连接层，光栅周期为2304～2308纳米，占空比为0.34～0.36，光栅深度为570～590纳米，连接层厚度为133～143纳米。
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