[发明专利]1×2高效率反射式光栅有效
| 申请号： | 201510165518.5 | 申请日： | 2015-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN104777537B | 公开（公告）日： | 2017-03-15 |
| 发明（设计）人： | 王津;周常河;麻健勇;曹红超;卢炎聪;李民康;项长铖 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司31213 | 代理人： | 张泽纯,张宁展 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 高效率 反射 光栅 | ||
【权利要求书】：
1.一种中心波长1064纳米波段的1×2高效率反射式光栅，特征在于其结构为熔融石英基底(4)上依次分别镀20纳米铬膜(3)、122纳米金膜(2)和熔融石英膜(1)，在熔融石英膜(1)上刻蚀矩形槽光栅，未被刻蚀的熔融石英膜层为连接层，光栅周期2304～2308纳米，占空比为0.34～0.36，光栅深度为570～590纳米，连接层厚度为133～143纳米。
2.根据权利要求1所述的1×2高效率反射式光栅，其特征在于所述的光栅的周期为2306纳米，占空比为0.35，光栅的刻蚀深度为580纳米，连接铬层厚度为138纳米。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所，未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510165518.5/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：双色电线
- 下一篇：一种高强度耐高温抗压电缆
