[发明专利]黑色矩阵、平面显示器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201510119208.X 申请日: 2015-03-18
公开(公告)号: CN104716161B 公开(公告)日: 2019-05-24
发明(设计)人: 许名宏 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 胡良均
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种黑色矩阵、包括黑色矩阵的平面显示器及其制作方法。黑色矩阵布置在位于第一平面的平面基底上,所述黑色矩阵包括光吸收层、微结构层以及设置在微结构层的与光吸收层相反侧的侧面上的光反射层;其中,微结构层被配置成使得入射到光反射层的光经过光反射层反射后相对于第一平面斜向地出射。光吸收层可以形成在微结构层的侧面上,也可以形成在基底上。
搜索关键词: 黑色 矩阵 平面 显示器 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种黑色矩阵,所述黑色矩阵布置在位于第一平面的平面基底上,所述平面基底的与布置所述黑色矩阵的表面相反的另一表面是显示面,所述黑色矩阵包括光吸收层、微结构层以及设置在微结构层的与光吸收层相反侧的侧面上的光反射层,光吸收层形成在微结构层的朝向平面基底的侧面上以及微结构层布置成与第一平面形成非90度的角度;其中,微结构层被配置成使得入射到光反射层的光经过光反射层反射后相对于第一平面斜向地出射,其中,在所述光吸收层和所述平面基底之间形成有空间,所述空间中不填充任何材料。
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