[发明专利]黑色矩阵、平面显示器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201510119208.X 申请日: 2015-03-18
公开(公告)号: CN104716161B 公开(公告)日: 2019-05-24
发明(设计)人: 许名宏 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 胡良均
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 黑色 矩阵 平面 显示器 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种黑色矩阵,所述黑色矩阵布置在位于第一平面的平面基底上,所述平面基底的与布置所述黑色矩阵的表面相反的另一表面是显示面,所述黑色矩阵包括光吸收层、微结构层以及设置在微结构层的与光吸收层相反侧的侧面上的光反射层,光吸收层形成在微结构层的朝向平面基底的侧面上以及微结构层布置成与第一平面形成非90度的角度;

其中,微结构层被配置成使得入射到光反射层的光经过光反射层反射后相对于第一平面斜向地出射,

其中,在所述光吸收层和所述平面基底之间形成有空间,所述空间中不填充任何材料。

2.一种黑色矩阵,所述黑色矩阵布置在位于第一平面的平面基底上,所述平面基底的与布置所述黑色矩阵的表面相反的另一表面是显示面,所述黑色矩阵包括光反射层、微结构层以及设置在微结构层的与光反射层相反侧的光吸收层,光吸收层形成在平面基底上以及微结构层布置成与第一平面形成非90度的角度;

其中,微结构层被配置成使得入射到光反射层的光经过光反射层反射后相对于第一平面斜向地出射,

其中,在所述光吸收层和所述微结构层之间形成有空间,所述空间中不填充任何材料。

3.根据权利要求1或2所述的黑色矩阵,其中微结构层形成为使得光反射层与第一平面不垂直。

4.根据权利要求1或2所述的黑色矩阵,其中微结构层形成为使得光反射层的切线方向与第一平面成变化的角。

5.根据权利要求1所述的黑色矩阵,其中,光吸收层覆盖微结构层的朝向平面基底的侧面的至少部分。

6.根据权利要求1或2所述的黑色矩阵,其中,光反射层覆盖微结构层的表面的至少部分。

7.根据权利要求1或2所述的黑色矩阵,其中光反射层是具有高反射率的金属层。

8.根据权利要求1或2所述的黑色矩阵,其中黑色矩阵的形状是选自由下列构成的组中的一种:棱镜形、四面体形、半球形、卵形、椭圆形、截顶锥形、截顶半球形、截顶卵形、截顶椭圆形。

9.根据权利要求2所述的黑色矩阵,其中光吸收层形成在基底上。

10.一种平面显示器,包括如前述权利要求中任一项所述的黑色矩阵。

11.一种制作用于平面显示器的黑色矩阵的方法,包括:

提供位于第一平面的基底,在基底上制作中空的光吸收层,并使得所述光吸收层和所述基底之间形成有空间,所述空间中不填充任何材料;

在光吸收层上制作微结构层,使得微结构层与所述基底形成非90度的角度;

在微结构层上制作光反射层;

其中,微结构层被构造成使得入射到光反射层的光经过光反射层反射后相对于第一平面斜向地出射,

其中,所述基底的与制作所述光吸收层的表面相反的另一表面是显示面。

12.一种制作用于平面显示器的黑色矩阵的方法,包括:

提供位于第一平面的基底,在基底上制作光吸收层;

在所述光吸收层上制作微结构层,使得微结构层与所述基底形成非90度的角度,并使得所述光吸收层和所述微结构层之间形成有空间,所述空间中不填充任何材料;

在微结构层上制作光反射层;

其中,微结构层被构造成使得入射到光反射层的光经过光反射层反射后相对于第一平面斜向地出射,

其中,所述基底的与制作所述光吸收层的表面相反的另一表面是显示面。

13.根据权利要求11或12所述的方法,其中微结构层形成为使得光反射层与第一平面不垂直。

14.根据权利要求11或12所述的方法,其中微结构层形成为使得光反射层的切线方向与第一平面成变化的角。

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