[发明专利]用于掩膜板的框架和掩膜板有效
| 申请号： | 201510047911.4 | 申请日： | 2015-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN104611668B | 公开（公告）日： | 2017-03-01 |
| 发明（设计）人： | 马利飞;李周炫 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人： | 彭瑞欣,陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于掩膜板的框架和掩膜板，所述框架包括框架本体、以及沿厚度方向贯穿所述框架本体的框架通孔，所述框架本体上形成有用于设置掩膜的第一凹槽，所述第一凹槽具有连续的底面，所述第一凹槽的内侧设置有第二凹槽，所述第二凹槽的底面低于所述第一凹槽的底面，所述第二凹槽用于设置遮挡膜，以使得所述遮挡膜的位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙的位置。本发明使掩膜的多条边缘和各个角部均固定在框架上，避免了掩膜边角的悬空状态，从而减少了掩膜的翘边和褶皱不良，提升了掩膜板的品质，提高了蒸镀良率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 掩膜板 框架 | ||
【主权项】：
一种用于掩膜板的框架，包括框架本体、以及沿厚度方向贯穿所述框架本体的框架通孔，所述框架本体上形成有用于设置掩膜的第一凹槽，其特征在于，所述第一凹槽具有连续的底面，所述第一凹槽的内侧设置有第二凹槽，所述第二凹槽的底面低于所述第一凹槽的底面，所述第二凹槽用于设置遮挡膜，以使得所述遮挡膜的位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙的位置，所述第一凹槽与所述第二凹槽连通。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510047911.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
