[发明专利]用于掩膜板的框架和掩膜板有效

专利信息
申请号: 201510047911.4 申请日: 2015-01-29
公开(公告)号: CN104611668B 公开(公告)日: 2017-03-01
发明(设计)人: 马利飞;李周炫 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 彭瑞欣,陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 用于 掩膜板 框架
【权利要求书】:

1.一种用于掩膜板的框架,包括框架本体、以及沿厚度方向贯穿所述框架本体的框架通孔,所述框架本体上形成有用于设置掩膜的第一凹槽,其特征在于,所述第一凹槽具有连续的底面,所述第一凹槽的内侧设置有第二凹槽,所述第二凹槽的底面低于所述第一凹槽的底面,所述第二凹槽用于设置遮挡膜,以使得所述遮挡膜的位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙的位置。

2.根据权利要求1所述的框架,其特征在于,所述框架还包括至少一个支撑部,所述支撑部形成在所述第二凹槽上,所述支撑部的位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙的位置,且所述支撑部的上表面与所述第一凹槽的底面相平齐,以使得所述掩膜的靠近所述空隙的边缘固定在所述支撑部上。

3.根据权利要求2所述的框架,其特征在于,所述框架上沿每个所述空隙的延伸方向设置有一个所述支撑部,所述支撑部上设置有下凹部,所述下凹部用于容纳所述遮挡膜,并且使所述遮挡膜与所述支撑部共同遮挡所述空隙。

4.根据权利要求2所述的框架,其特征在于,所述框架上沿每个所述空隙的延伸方向设置有两个所述支撑部,两个所述支撑部之间具有间隔,所述间隔用于容纳所述遮挡膜,并且使所述遮挡膜与所述支撑部共同遮挡所述空隙。

5.一种掩膜板,其特征在于,包括权利要求1至4中任意一项所述的框架、设置在所述第一凹槽中的掩膜、以及设置在所述第二凹槽中的遮挡膜,所述掩膜的图形包括掩膜通孔,所述掩膜通孔位于所述框架通孔限定的区域内,所述遮挡膜的位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙的位置。

6.根据权利要求5所述的掩膜板,其特征在于,所述框架还包括至少一个支撑部,所述支撑部形成在所述第二凹槽上,所述支撑部的位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙的位置,且所述支撑部的上表面与所述第一凹槽的底面相平齐,所述掩膜的靠近所述空隙的边缘固定在所述支撑部上,所述掩膜的其他边缘固定在所述第一凹槽的底面上。

7.根据权利要求6所述的掩膜板,其特征在于,所述框架上沿每个所述空隙的延伸方向设置有一个所述支撑部,所述支撑部上设置有下凹部,所述遮挡膜的一部分位于所述下凹部中,并且所述遮挡膜与所述支撑部共同遮挡所述空隙。

8.根据权利要求6所述的掩膜板,其特征在于,所述框架上沿每个所述空隙的延伸方向设置有两个所述支撑部,两个所述支撑部之间具有间隔,所述遮挡膜的一部分位于所述间隔中,并且所述遮挡膜与所述支撑部共同遮挡所述空隙。

9.根据权利要求5至8中任意一项所述的掩膜板,其特征在于,所述框架、所述掩膜和所述遮挡膜均由殷钢或殷钢合金制成,所述掩膜焊接在所述第一凹槽中,所述遮挡膜焊接在所述第二凹槽中。

10.根据权利要求7或8所述的掩膜板,其特征在于,所述遮挡膜的延伸方向与所述空隙的延伸方向垂直。

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