[发明专利]用于掩膜板的框架和掩膜板

说明书

技术领域

本发明涉及显示面板制造领域，尤其涉及一种用于掩膜板的框架、以及包括该框架的掩膜板。

背景技术

在半导体制造工艺中，经常需要用到蒸镀技术。以有机发光二极管(OLED)显示屏的制备为例，需要采用高精度金属掩膜板(Fine Metal Mask，FMM)，将蒸镀材料在其下方加热，使材料向上蒸发或升华，并透过掩膜板设计好的开口沉积或溅射到待蒸镀基板的表面，以形成所需要的膜层图案。

图1和图2是现有蒸镀用掩膜板的结构示意图，所述掩膜板通常包括框架11、掩膜12、遮挡膜13等，掩膜12和遮挡膜13均焊接在承载它们的框架11上。其中，多个掩膜12需要与框架11实现组合，即张网，遮挡膜13需要焊接在相邻掩膜12之间的空隙14处，起到遮挡空隙14的作用，以防止材料从空隙14中蒸发到基板上造成混色。

在张网过程中，先把遮挡膜13焊接到框架11上，然后再焊接掩膜12，框架11上会预留放置掩膜12以及遮挡膜13的凹槽，为了保证整个掩膜板的平整度，框架11上留给遮挡膜13的凹槽会比留给掩膜12的凹槽深，如图2所示。

通常，掩膜12的厚度非常薄，在图2所示的现有技术中，掩膜12靠近空隙14的边缘和角部没有框架11的支撑，也没有焊接到框架11上，这样容易使掩膜12在该处发生翘边、卷曲等不良现象。并且，在焊接掩膜12时，需要在掩膜12上施加张力，以将掩膜12展平，同时利用焊接工具进行焊接，如果焊接时张力不合适，还会使掩膜12发生褶皱，从而使蒸镀良率下降。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于掩膜板的框架和掩膜板，以防止掩膜边缘处产生翘曲或者褶皱，提高蒸镀良率。

为解决上述技术问题，作为本发明的第一个方面，提供一种用于掩膜板的框架，包括框架本体、以及沿厚度方向贯穿所述框架本体的框架通孔，所述框架本体上形成有用于设置掩膜的第一凹槽，所述第一凹槽具有连续的底面，所述第一凹槽的内侧设置有第二凹槽，所述第二凹槽的底面低于所述第一凹槽的底面，所述第二凹槽用于设置遮挡膜，以使得所述遮挡膜的位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙的位置。

优选地，所述框架还包括至少一个支撑部，所述支撑部形成在所述第二凹槽上，所述支撑部的位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙的位置，且所述支撑部的上表面与所述第一凹槽的底面相平齐，以使得所述掩膜的靠近所述空隙的边缘固定在所述支撑部上。

优选地，所述框架上沿每个所述空隙的延伸方向设置有一个所述支撑部，所述支撑部上设置有下凹部，所述下凹部用于容纳所述遮挡膜，并且使所述遮挡膜与所述支撑部共同遮挡所述空隙。

优选地，所述框架上沿每个所述空隙的延伸方向设置有两个所述支撑部，两个所述支撑部之间具有间隔，所述间隔用于容纳所述遮挡膜，并且使所述遮挡膜与所述支撑部共同遮挡所述空隙。

作为本发明的第二个方面，还提供一种掩膜板，所述掩膜板包括本发明所提供的上述框架、设置在所述第一凹槽中的掩膜、以及设置在所述第二凹槽中的遮挡膜，所述掩膜的图形包括掩膜通孔，所述掩膜通孔位于所述框架通孔限定的区域内，所述遮挡膜的位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙的位置。

优选地，所述框架还包括至少一个支撑部，所述支撑部形成在所述第二凹槽上，所述支撑部的位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙的位置，且所述支撑部的上表面与所述第一凹槽的底面相平齐，所述掩膜的靠近所述空隙的边缘固定在所述支撑部上，所述掩膜的其他边缘固定在所述第一凹槽的底面上。

优选地，所述框架上沿每个所述空隙的延伸方向设置有一个所述支撑部，所述支撑部上设置有下凹部，所述遮挡膜的一部分位于所述下凹部中，并且所述遮挡膜与所述支撑部共同遮挡所述空隙。

优选地，所述框架上沿每个所述空隙的延伸方向设置有两个所述支撑部，两个所述支撑部之间具有间隔，所述遮挡膜的一部分位于所述间隔中，并且所述遮挡膜与所述支撑部共同遮挡所述空隙。

优选地，所述框架、所述掩膜和所述遮挡膜均由殷钢或殷钢合金制成，所述掩膜焊接在所述第一凹槽中，所述遮挡膜焊接在所述第二凹槽中。

优选地，所述遮挡膜的延伸方向与所述空隙的延伸方向垂直。

本发明使掩膜的多条边缘和各个角部均固定在框架上，避免了掩膜边角的悬空状态，从而减少了掩膜的翘边和褶皱不良，提升了掩膜板的品质，提高了蒸镀良率。

附图说明

附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。

图1是现有掩膜板的结构示意图；