[发明专利]用于在基板上沉积材料的组件和方法在审
| 申请号： | 201480081891.6 | 申请日： | 2014-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN107075663A | 公开（公告）日： | 2017-08-18 |
| 发明（设计）人： | 尤韦·赫尔曼斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54;C23C14/56;H01J37/34 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人： | 徐金国,赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开案描述了一种用于在基板上沉积材料的组件(100)。所述组件包括第一阴极(110)，所述第一阴极(110)包括第一靶材材料；至少一个第二阴极(120)，所述至少一个第二阴极(120)包括不同于所述第一靶材材料的至少一个第二靶材材料；以及电源(150)，所述电源(150)被配置成供应和控制供应至第一阴极(110)和至少一个第二阴极(120)的功率，使得能够调整第一靶材材料的第一溅射部分与至少一个第二靶材材料的至少第二溅射部分的比率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基板上 沉积 材料 组件 方法 | ||
【主权项】：
一种用于在基板上沉积材料的组件(100)，所述组件包括：‑第一阴极(110)，所述第一阴极(110)包括第一靶材材料，‑至少一个第二阴极(120)，所述至少一个第二阴极(120)包括不同于所述第一靶材材料的至少一个第二靶材材料，以及‑电源(150)，所述电源(150)被配置成供应和控制供应至所述第一阴极(110)和所述至少一个第二阴极(120)的功率，使得能够调整所述第一靶材材料的第一溅射部分与所述至少一个第二靶材材料的至少第二溅射部分的比率。
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