[发明专利]加热构件及具有该加热构件的基板处理装置

摘要

本发明涉及基板处理装置。本发明的基板处理装置包括：处理室，基板基座，设置在所述处理室，在该基板基座的同一平面上放置有多个基板，该基板基座与旋转轴连接来旋转，加热构件，位于所述基板基座的底面，以及喷射构件，在与放置于所述基板基座的多个基板分别对应的位置，对基板的整个处理面喷射气体；所述加热构件具有内部空间，在所述内部空间，用于对所述基板基座进行加热的多个热线，以所述基板基座的旋转轴为中心，在同心圆上水平和垂直地配置有多列。

主权项

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：处理室，基板基座，设置在所述处理室，在该基板基座的同一平面上放置有多个基板，该基板基座与旋转轴连接来旋转，加热构件，位于所述基板基座的底面，具有内部空间，在所述内部空间，用于对所述基板基座进行加热的多个热线，按照形成以所述基板基座的旋转轴为中心的同心圆的方式在水平方向和垂直方向上配置有多列，以及喷射构件，在与放置于所述基板基座的多个基板分别对应的位置，对基板的整个处理面喷射气体；为了防止因所述热线的热膨胀而产生的热线的下垂和扭曲，所述加热构件还包括用于支撑所述热线的多个热线支撑件；所述热线支撑件包括：支承块；以及棒状的支撑棒，设置在所述支承块的上表面，而且为了使该支撑棒与所述热线之间的接触面实现最小化来防止热损失，并且防止因所述热线的高热而导致所述热线支撑件损坏，所述支撑棒与所述热线进行点接触。