[发明专利]加热构件及具有该加热构件的基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，

包括：

处理室，

基板基座，设置在所述处理室，在该基板基座的同一平面上放置有多个基板，该基板基座与旋转轴连接来旋转，

加热构件，位于所述基板基座的底面，具有内部空间，在所述内部空间，用于对所述基板基座进行加热的多个热线，按照形成以所述基板基座的旋转轴为中心的同心圆的方式在水平方向和垂直方向上配置有多列，以及

喷射构件，在与放置于所述基板基座的多个基板分别对应的位置，对基板的整个处理面喷射气体；

为了防止因所述热线的热膨胀而产生的热线的下垂和扭曲，所述加热构件还包括用于支撑所述热线的多个热线支撑件；

所述热线支撑件包括：

支承块；以及

棒状的支撑棒，设置在所述支承块的上表面，而且为了使该支撑棒与所述热线之间的接触面实现最小化来防止热损失，并且防止因所述热线的高热而导致所述热线支撑件损坏，所述支撑棒与所述热线进行点接触。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述支撑棒的材料与所述热线的材料相同。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述支撑棒沿着与所述热线的长度方向正交的方向长长地设置。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述加热构件还包括由上部壁、下部壁及多个侧壁构成的外罩，该外罩使设置有所述热线的内部空间与所述处理室的内部隔开。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

所述加热构件还包括供给口，该供给口设置在所述下部壁，用于向所述内部空间供给吹扫气体，从而使处理气体不能侵入所述内部空间。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

所述加热构件还包括排气口，该排气口设置在所述下部壁，用于将通过所述供给口供给至所述内部空间的吹扫气体排出。

7.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

所述加热构件包括多个侧孔，该侧孔形成在所述外罩的侧壁，用于将通过所述供给口供给至所述内部空间的吹扫气体排出。

8.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

所述上部壁，由能够使从所述热线放出的辐射热通过的透明的石英材料形成。

9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述基板基座与所述加热构件之间，形成有用于以辐射方式传递所述热线的热源的辐射热传递空间。

10.一种加热构件，用于对基板基座进行加热，该加热构件的特征在于，

包括：外罩，以与外部环境隔开的方式，由上部壁、下部壁及多个侧壁构成内部空间；

在所述内部空间，用于对所述基板基座进行加热的多个热线，按照形成以所述基板基座的旋转轴为中心的同心圆的方式在水平方向和垂直方向上配置有多列；

还包括多个热线支撑件，为了防止因所述热线的热膨胀而产生的热线的下垂和扭曲，所述热线支撑件支撑所述热线，

所述热线支撑件包括：

支承块；以及

棒状的支撑棒，设置在所述支承块的上表面，而且为了使该支撑棒与所述热线之间的接触面实现最小化来防止热损失，并且防止因所述热线的高热而导致所述热线支撑件损坏，所述支撑棒与所述热线进行点接触。

11.根据权利要求10所述的加热构件，其特征在于，

所述加热构件还包括：

供给口，用于向所述内部空间供给吹扫气体，从而使处理气体不能侵入所述内部空间；及

排气口，用于使通过所述供给口供给至所述内部空间的吹扫气体排出。