[发明专利]具有增强的实心吸气剂的基板腔室有效
申请号: | 201480049236.2 | 申请日: | 2014-09-05 |
公开(公告)号: | CN105637627A | 公开(公告)日: | 2016-06-01 |
发明(设计)人: | 格雷戈里·博雷斯 | 申请(专利权)人: | 安格斯公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;B65D85/38 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 孙纪泉 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 用于一个或多个基板的腔室具有外壳,该外壳限定容纳容积并且在其中包括块状或板状吸气剂单元,该吸气剂单元具有由通过一系列沟槽或其它重复表面结构图案形成在板或块上的增大的表面面积提供的增强性能。这种图案化在板或块上提供增大的表面面积,从而增大活性成分暴露于容纳容积的面积。在实施例中,块或板的一侧上的结构在相反侧上具有镜像表面或互补表面。使用这样的结构,保留了块或板的刚度,最小化重量,并且最大化露出的表面面积。外壳可以具有特定的袋或可以利用用于块或板状吸气剂的传统基板槽。板或块状吸气剂可以被构造为装配在传统的槽中或晶片容器或其它基板容器中的专用袋中。 | ||
搜索关键词: | 具有 增强 实心 吸气 基板腔室 | ||
【主权项】:
一种基板容器,包括:腔室,所述腔室限定内部并且包括保持基板的结构,所述基板受空气衍生污染物的影响;以及吸气剂,该吸气剂包括聚合物和分子筛材料,该吸气剂具有一表面,该表面具有由在两个相反的主表面的每一个中的多个沟槽形成以提供增大的表面面积的重复图案。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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