[发明专利]半导体加工用片材有效

专利信息
申请号: 201480047439.8 申请日: 2014-08-29
公开(公告)号: CN105492558B 公开(公告)日: 2019-03-22
发明(设计)人: 山下茂之;佐藤明德 申请(专利权)人: 琳得科株式会社
主分类号: C09J7/24 分类号: C09J7/24;C09J9/02;C09J11/06;C09J133/00;H01L21/301;H01L21/304
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 谢顺星;张晶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种半导体加工用片材。本发明的半导体加工用片材(1)具备基材(2)及层积于所述基材的至少一个面上的粘着剂层(3),其中,粘着剂层(3)由粘着剂组合物形成,所述粘着剂组合物含有:具有盐及能量线固化性基团的聚合物、以及除上述聚合物以外的能量线固化性粘着成分。该半导体加工用片材(1),能够发挥充分的抗静电性,并且在能量线照射后剥离时抑制被粘物的污染。
搜索关键词: 半导体 工用
【主权项】:
1.一种半导体加工用片材,具备基材、及层积于所述基材的至少一个面上的粘着剂层,其特征在于,所述粘着剂层由粘着剂组合物形成,所述粘着剂组合物含有:具有盐及能量线固化性基团的聚合物、以及除所述聚合物以外的能量线固化性粘着成分,所述聚合物的重均分子量为3万~20万。
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