[发明专利]反射电极用或布线电极用Ag合金膜、反射电极或布线电极、和Ag合金溅射靶有效
| 申请号： | 201480035394.2 | 申请日： | 2014-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN105324510B | 公开（公告）日： | 2018-12-14 |
| 发明（设计）人： | 志田阳子;后藤裕史;越智元隆 | 申请（专利权）人： | 株式会社神户制钢所 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C22C5/06;C23C14/34;H01B1/02;H01B5/14;H01L21/28;H01L21/285;H01L51/50;H05B33/26;C22F1/00;C22F1/14 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张玉玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种显示出低电阻率和高反射率，并且对于UV照射、O2等离子体处理等的清洗处理的耐氧化性优异的反射电极或布线电极所用的Ag合金膜，其中，含有In高于2.0原子％且2.7原子％以下、Bi 0.01～1.0原子％。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 电极 布线 ag 合金 溅射 | ||
【主权项】：
1.一种反射电极用或布线电极用Ag合金膜，是用于反射电极或布线电极的Ag合金膜，其特征在于，含有高于2.0原子％且为2.7原子％以下的In、0.01～1.0原子％的Bi，其中，在所述Ag合金膜的表面形成有In含量高于2.0原子％且比Ag合金膜的平均组成多的稠化层，并且，在所述Ag合金膜为膜厚100nm的单层膜时，在N2气氛下以250℃进行1小时加热处理后以4端子法测量得到的电阻率为8.1μΩ·cm以下。
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