[发明专利]反射电极用或布线电极用Ag合金膜、反射电极或布线电极、和Ag合金溅射靶有效
| 申请号： | 201480035394.2 | 申请日： | 2014-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN105324510B | 公开（公告）日： | 2018-12-14 |
| 发明（设计）人： | 志田阳子;后藤裕史;越智元隆 | 申请（专利权）人： | 株式会社神户制钢所 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C22C5/06;C23C14/34;H01B1/02;H01B5/14;H01L21/28;H01L21/285;H01L51/50;H05B33/26;C22F1/00;C22F1/14 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张玉玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反射 电极 布线 ag 合金 溅射 | ||
1.一种反射电极用或布线电极用Ag合金膜，是用于反射电极或布线电极的Ag合金膜，其特征在于，
含有高于2.0原子％且为2.7原子％以下的In、0.01～1.0原子％的Bi，
其中，在所述Ag合金膜的表面形成有In含量高于2.0原子％且比Ag合金膜的平均组成多的稠化层，
并且，在所述Ag合金膜为膜厚100nm的单层膜时，在N2气氛下以250℃进行1小时加热处理后以4端子法测量得到的电阻率为8.1μΩ·cm以下。
2.一种反射电极或布线电极，其特征在于，其为仅在权利要求1所述的Ag合金膜的正上方、或在所述Ag合金膜的正上方和正下方形成膜厚为5nm以上且低于25nm的透明导电膜而成。
3.根据权利要求2所述的反射电极或布线电极，其中，所述透明导电膜为ITO或IZO。
4.一种Ag合金溅射靶的用途，其特征在于，是将Ag合金溅射靶用于权利要求1所述的Ag合金膜的成膜的用途，其中，所述Ag合金溅射靶含有高于2.0原子％且为2.7原子％以下的In、0.01～2.0原子％的Bi。
5.一种具备权利要求2所述的反射电极的显示装置。
6.一种具备权利要求3所述的反射电极的显示装置。
7.一种具备权利要求2所述的布线电极的触控面板。
8.一种具备权利要求3所述的布线电极的触控面板。
9.一种具备权利要求2所述的反射电极的照明装置。
10.一种具备权利要求3所述的反射电极的照明装置。
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