[发明专利]制造光吸收层的方法有效
| 申请号: | 201480024133.0 | 申请日: | 2014-05-07 |
| 公开(公告)号: | CN105164820B | 公开(公告)日: | 2017-10-13 |
| 发明(设计)人: | 金珍赫;金譓俐;安成宰;金镇雄 | 申请(专利权)人: | SK新技术株式会社 |
| 主分类号: | H01L31/0749 | 分类号: | H01L31/0749;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 蔡胜有,苏虹 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明可以提供通过使用溅射法沉积并退火多层结构的前体而制造CIGS光吸收层的方法,其中使用了InxGaySez(IGS)和CuxSey的化合物靶,该方法具有提高的材料使用率、提高的生产率,并且即使在大的面积下也具有优异的薄膜均匀性。 | ||
| 搜索关键词: | 制造 光吸收 方法 | ||
【主权项】:
一种制造太阳能电池的方法,包括:在基板上形成下电极层;通过使用由IIIb族元素与Se的化合物组成的靶进行溅射在所述下电极层上形成第一前体层;通过使用由Ib族元素与Se的化合物组成的靶进行溅射在所述第一前体层上形成第二前体层;通过使用由IIIb族元素与Se的化合物组成的靶进行溅射在所述第二前体层上形成第三前体层;通过形成所述第三前体层,然后进行Se气氛热处理工艺而形成光吸收层;在所述光吸收层上形成缓冲层;在所述缓冲层上形成上电极层,其中所述第一前体层和所述第三前体层具有0.2至0.6的Ga/(Ga+In)的组成比,以及所述第一前体层在T1下形成,所述第二前体层在温度T2下形成,以及所述第三前体层在温度T3下形成,其中所述T2低于T1,T3高于或等于T2,以及所述T2低于250℃。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





