[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法在审
| 申请号： | 201480021802.9 | 申请日： | 2014-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN105122363A | 公开（公告）日： | 2015-12-02 |
| 发明（设计）人： | 德光秀造;神谷尚宏 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法尽可能不使通过精密研磨得到的平滑的表面粗糙度恶化，能够实施高度洁净的清洗。本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法中，在磁盘用玻璃基板的镜面研磨工序后，进行使玻璃基板与清洗液接触的清洗处理，该清洗液对玻璃基板具有蚀刻性并含有胍和咪唑中的至少一种。另外，一边抑制上述清洗液中的钠离子和钾离子的总量小于200ppm，一边进行清洗处理。 | ||
| 搜索关键词： | 磁盘 玻璃 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗处理包括使所述玻璃基板与含有胍和咪唑中的至少一种的清洗液接触的处理，预先求出所述清洗处理后的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)相对于所述清洗处理前的增大量、和用于所述清洗处理的清洗液中的钠离子与钾离子的总浓度的关系，基于所求出的所述关系，决定所述表面粗糙度(Ra)的增大量达到0.06nm以下的所述清洗液中的钠离子与钾离子的总浓度，在所述清洗液中的钠离子与钾离子的总浓度为所述决定的浓度以下的条件下，进行主表面经镜面研磨的所述玻璃基板的清洗处理。
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