[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法

说明书

本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法尽可能不使通过精密研磨得到的平滑的表面粗糙度恶化，能够实施高度洁净的清洗。本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法中，在磁盘用玻璃基板的镜面研磨工序后，进行使玻璃基板与清洗液接触的清洗处理，该清洗液对玻璃基板具有蚀刻性并含有胍和咪唑中的至少一种。另外，一边抑制上述清洗液中的钠离子和钾离子的总量小于200ppm，一边进行清洗处理。

技术领域

本发明涉及搭载于硬盘驱动器(HDD)等磁盘装置的磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法。

背景技术

作为搭载于硬盘驱动器(HDD)等磁盘装置的一种信息记录介质，存在磁盘。磁盘是在基板上形成磁性层等薄膜而构成的，作为该基板过去一直使用铝基板。但是，最近，随着记录的高密度化的要求，与铝基板相比玻璃基板能够使磁头和磁盘之间的间隔变得更窄，因此玻璃基板所占有的比例逐渐升高。另外，对玻璃基板表面高精度地进行研磨以使磁头的悬浮高度尽量下降，由此实现记录的高密度化。近年来，对HDD越来越多地要求更大的存储容量化，为了实现这样的目的，磁盘用玻璃基板也需要进一步的高品质化，要求为更平滑且洁净的玻璃基板表面。

如上所述，为了对于记录的高密度化所必须的低飞行高度(悬浮量)化，磁盘表面必须具有高平滑性。为了得到磁盘表面的高平滑性，结果要求具有高平滑性的基板表面，因此需要对玻璃基板表面进行高精度的研磨，但仅仅如此是不够的，还需要通过研磨后的清洗去除基板表面的附着异物，得到洁净的基板表面。

作为现有的方法，例如，专利文献1中公开了一种方法，其中，在利用含有多元胺的研磨液进行研磨后，对基板进行碱(pH8～13)清洗。另外，专利文献2中公开了一种方法，其中，在研磨后用含有碱性试剂、醛糖酸类的pH10以上的碱性清洗剂对基板进行清洗。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-107226号公报

专利文献2：日本特开2010-86563号公报

发明内容

发明要解决的课题

现在的HDD能够实现一平方英寸500千兆比特程度的记录密度，例如，1枚2.5英寸型(直径65mm)的磁盘能够存储320千兆字节程度的信息，但是要求实现记录的更高密度化、例如375～500千兆字节、进而1百万兆字节。伴随着这种近年来的HDD的大容量化的要求，提高基板表面品质的要求也比迄今为止更加严格。在面向上述那样的例如375～500千兆字节的磁盘的下一代基板中，由于基板对介质特性所产生的影响变大，因此不仅是基板表面的粗糙度，而且在不存在异物附着等导致的表面缺陷的方面也要求对现有产品进行进一步的改善。

在下一代基板中基板对介质特性所产生的影响变大是基于下述理由。

可以举出磁头的悬浮量(磁头与介质(磁盘)表面的间隙)的大幅降低(低悬浮量化)。这样一来，磁头与介质的磁性层的距离接近，因此能够拾取更小的磁性颗粒的信号，能够实现记录的高密度化。近年来，为了实现现有以上的低悬浮量化，使磁头搭载了被称为DFH(Dynamic Flying Height，动态飞行高度)的功能。该功能是在磁头的记录再生元件部的附近设置极小的加热器等加热部，仅使记录再生元件部周边向介质表面方向突出。可以预计：今后，通过该DFH功能，磁头的元件部与介质表面的间隙变得极小，小于2nm或小于1nm。在这种状况下，使基板表面的平均粗糙度变得极小，结果可知：若存在以往未成为问题的极小的异物(例如小的物质，在主表面的面内方向的长度为10nm～40nm左右)的附着等所引起的略呈凸状的程度的表面缺陷，则直接在介质表面形成凸状缺陷，因而磁头碰撞的危险性提高。

另外，根据本发明人的研究，可知：即便使用以上述专利文献中公开的方法为代表的现有的各种精密研磨技术、精密清洗技术，或者单纯对它们进行组合使用，也无法兼顾清洗后的低粗糙度和高洁净度。