[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法

权利要求书

1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述清洗处理包括使所述玻璃基板与含有胍和咪唑中的至少一种的清洗液接触的处理，

预先求出所述清洗处理后的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)相对于所述清洗处理前的增大量、和用于所述清洗处理的清洗液中的钠离子与钾离子的总浓度的关系，

基于所求出的所述关系，决定所述表面粗糙度(Ra)的增大量达到0.06nm以下的所述清洗液中的钠离子与钾离子的总浓度，

在所述清洗液中的钠离子与钾离子的总浓度为所述决定的浓度以下的条件下，进行主表面经镜面研磨的所述玻璃基板的清洗处理。

2.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述玻璃基板在玻璃成分中含有钠和钾中的至少一种成分，

使用含有胍和咪唑中的至少一种的清洗液，

按照所述清洗液中的钠离子和钾离子的总量小于200ppm的方式一边更换所述清洗液的至少一部分，一边进行主表面经镜面研磨的所述玻璃基板的清洗处理。

3.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述清洗处理包括使所述玻璃基板与含有胍和咪唑中的至少一种的清洗液接触的处理，

一边抑制所述清洗液中的钠离子和钾离子的总量小于200ppm，一边进行所述清洗处理。

4.如权利要求1～3中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述玻璃基板在玻璃成分中含有钠和钾中的至少一种成分。

5.如权利要求1～3中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗液进一步含有表面活性剂、螯合剂以及分散剂中的至少一种物质，

一边抑制所述清洗液中的钠离子和钾离子的总量小于200ppm，一边进行所述清洗处理。

6.如权利要求2～3中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗处理后的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)与即将进行所述清洗处理前的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)之差为0.06nm以内。

7.如权利要求1～3中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗处理是在利用研磨磨粒对所述玻璃基板的主表面进行研磨的研磨工序中的最终研磨工序后所进行的清洗处理。

8.如权利要求7所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述最终研磨中所用的研磨液为碱性。

9.一种磁盘的制造方法，其特征在于，在利用权利要求1～8中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法所制造的磁盘用玻璃基板上至少形成磁记录层。