[实用新型]一种带有上料台运动机构的MOCVD设备有效
申请号: | 201420629559.6 | 申请日: | 2014-10-28 |
公开(公告)号: | CN204251705U | 公开(公告)日: | 2015-04-08 |
发明(设计)人: | 肖四哲;肖岳南 | 申请(专利权)人: | 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;B25J9/08;B25J9/16 |
代理公司: | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 | 代理人: | 胡朝阳;孙洁敏 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙岗*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种带有上料台运动机构的MOCVD设备,属于MOCVD设备制造技术领域。带有上料台运动机构的MOCVD设备包括设备机架、设于设备机架内的反应室、及设于反应室外的机械手,机械手抓取石墨盘送入或送出反应室,还包括用于给机械手进盘和出盘的上料台运动机构,所述上料台运动机构包括:固定在设备机架内的底板、设于底板上端的机械传动部分、及固定在机械传动部分上方的载片盘。带有自动化的上料台运动机构,通过机械传动完成进盘、出盘动作,提高了MOCVD设备的人机操作的便捷性能及自动化程度。 | ||
搜索关键词: | 一种 带有 上料台 运动 机构 mocvd 设备 | ||
【主权项】:
一种带有上料台运动机构的MOCVD设备,包括设备机架、设于设备机架内的反应室、及设于反应室外的机械手,机械手抓取石墨盘送入或送出反应室,其特征在于,还包括用于给机械手进盘和出盘的上料台运动机构,上料台运动机构包括固定在设备机架内的底板、设于底板上端的机械传动部分、及固定在机械传动部分上方的载片盘。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的