[实用新型]一种带有上料台运动机构的MOCVD设备有效
申请号: | 201420629559.6 | 申请日: | 2014-10-28 |
公开(公告)号: | CN204251705U | 公开(公告)日: | 2015-04-08 |
发明(设计)人: | 肖四哲;肖岳南 | 申请(专利权)人: | 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;B25J9/08;B25J9/16 |
代理公司: | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 | 代理人: | 胡朝阳;孙洁敏 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙岗*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 带有 上料台 运动 机构 mocvd 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及MOCVD设备制造技术领域,更具体地涉及一种带有上料台运动机构的MOCVD设备。
背景技术
MOCVD全称金属有机化合物化学气相沉淀,是在气相外延生长(VPE)的基础上发展起来的一种新型气相外延生长技术。在LED半导体行业中,目前全球MOCVD设备制造商主要有两家,分别是德国的AIXTRON公司和美国的VEECO公司,其中AIXTRON公司大约占60-70%的国际市场份额,VEECO公司占30-40%。在MOCVD设备技术领域中几乎所有核心技术均被上述两家公司占有垄断,国内还没有这一领域的核心专利和成熟的设计技术,高质量、量产型的MOCVD设备大多还处于试验阶段,工艺和设备制造技术都不完善。这就使得我国甚至全世界范围内的MOCVD设备的发展受到局限。
在MOCVD设备运行过程中,有一个未工艺盘的送入和已工艺盘的送出动作。国内的MOCVD设备均无法提供自动化的上料台运动机构,这使得工艺中的进盘和出盘动作存在以下缺陷:进盘和出盘动作全部依赖人工手动完成,而未达到自动化生产程度,导致人机操作复杂,生产效率低,且人工成本高。
因此,为了提高MOCVD设备的人机操作的便捷性能及自动化程度,有必要设计一种能够自动送入、送出石墨盘带有上料台运动机构的MOCVD设备,是业界亟待解决的技术问题。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是克服上述现有技术的不足,提供一种自动化的带有上料台运动机构的MOCVD设备,通过机械传动完成进盘、出盘动作,操作便捷,满足产业化生产需求。
本实用新型解决上述技术问题采用的技术方案是:一种带有上料台运动机构的MOCVD设备,包括设备机架、设于设备机架内的反应室、及设于反应室外的机械手,机械手抓取石墨盘送入或送出反应室,还包括用于给机械手进盘和出盘的上料台运动机构,上料台运动机构包括固定在设备机架内的底板、设于底板上端的机械传动部分、及固定在机械传动部分上方的载片盘。
所述机械传动部分包括固定在底板上端沿底板长度方向设置的导轨、设在导轨上的滑块、及带动滑块在导轨上来回移动的动力部件,所述滑块上端固定有安装板,安装板上端固定有连接竖板,所述载片盘下端固定连接柱,连接柱下端固定有连接横板,连接竖板与连接横板固定连接,从而滑块带动载片盘同步来回移动。
所述底板上端两侧设有竖板,竖板上端并排设有两块盖板,沿着两块盖板相接触的侧面上开设有长条形的通孔,连接竖板穿过所述长条形的通孔与连接横板固定连接。
所述底板的两侧底端分别安装有固定板,底板通过两块固定板固定安装在设备机架内。
所述滑块由左、右两块构成。
所述动力部件包括设于导轨一端的电机、安装在电机输出端的减速机、连接减速机的主动带轮、设于导轨另一端的从动带轮、及用于主动带轮带动从动带轮转动的皮带,电机通过减速机带动主动带轮转动,皮带连接滑块,并带动滑块在导轨上同步来回移动。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果:采用机械传动方式代替人工操作,运用自动化编程控制MOCVD设备的上料台运动机构进盘和出盘过程。根据检验方案对上料台运动机构进行检测,通过测试得出:1、上料台运动机构使人机操作方便快捷,机械自动化程度大幅提升,大大降低了人工操作强度、难度。2、MOCVD设备满足了产业化生产的需求,提高生产效率,为实现大规模产业化生产提供了必要的条件,有利于国内MOCVD设备的科技发展。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的上料台运动机构内部结构示意图。
具体实施方式
下面将结合附图以及具体实施方式,对本实用新型做进一步描述。
请参见图1至图2,本实用新型涉及一种带有上料台运动机构的MOCVD设备,包括设备机架1、设于设备机架1内的反应室、设于反应室外的机械手3、及用于给机械手3进盘和出盘的上料台运动机构2,机械手3用于抓取石墨盘22在上料台运动机构2与反应室之间运送。上料台运动机构2包括外形结构部分、设于外形结构部分内的机械传动部分、以及固定在机械传动部分上方的载片盘17,外形结构部分固定安装在设备机架1内,载片盘17通过机械传动部分带动其在外形结构部分上方做来回直线运动,使得载片盘17承载石墨盘22送入、送出至机械手3的进盘位。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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