[实用新型]电子束蒸镀装置有效

专利信息
申请号: 201420405903.3 申请日: 2014-07-22
公开(公告)号: CN203999792U 公开(公告)日: 2014-12-10
发明(设计)人: 清水祐辅;山成淳一 申请(专利权)人: 日立造船株式会社
主分类号: C23C14/30 分类号: C23C14/30
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 周善来;李雪春
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 实用新型提供电子束蒸镀装置,能抑制因电子束蒸镀产生的二次电子和反射电子入射到基板及进行电子屏蔽的磁体本身成为屏蔽物而妨碍蒸镀这两者。使蒸镀材料的收容容器(坩埚(2))位于进行蒸镀的基板(1)的下方,在比收容容器的中心靠向基板(1)中心方向的上方空间,夹着收容容器的中心且隔开规定的间隔,将一对磁体(4(4A、4B))各自的基板中心侧端部配置成比另一个端部向下方倾斜。在与电子束蒸镀的同时向先形成在基板上的有机薄膜上照射电子束蒸镀时产生的反射电子和二次电子的情况下,能抑制有机器件的特性下降,能得到与用电阻加热式金属蒸镀制作的有机器件同等的特性。此外,所述机构本身不会成为蒸镀的屏蔽物,能在基板整个区域进行蒸镀。
搜索关键词: 电子束 装置
【主权项】:
一种电子束蒸镀装置,其形成磁场,并且使被加速后的电子照射而被加热从而蒸发了的材料附着在基板表面,由此形成薄膜,所述磁场对产生的电子向所述基板的入射进行屏蔽,所述电子束蒸镀装置的特征在于,使蒸镀材料的收容容器位于进行蒸镀的所述基板的下方,在比所述收容容器的中心靠向所述基板的中心方向的上方空间,夹着所述收容容器的中心且隔开规定的间隔配置有一对磁体,并且所述一对磁体配置成:各个磁体的基板中心侧的端部比另一个端部向下方倾斜。
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