[实用新型]一种半导体元件检测机的视觉系统改良结构有效
申请号: | 201420402818.1 | 申请日: | 2014-07-21 |
公开(公告)号: | CN203941885U | 公开(公告)日: | 2014-11-12 |
发明(设计)人: | 陆林 | 申请(专利权)人: | 京隆科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京华夏博通专利事务所(普通合伙) 11264 | 代理人: | 刘俊 |
地址: | 215000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种半导体元件检测机的视觉系统改良结构,包括一相机镜头和高度调节机构,高度调节机构包括固设于机台本体上的固定件和沿固定件滑移的滑移件,相机镜头固设于滑移件上,相机镜头的光源通光孔处设有一聚焦镜片,光源在进入光源通光孔后经聚焦镜片聚焦汇集,再经由平面镜90度偏折反射后,从光源出口处照射在半导体元件上。本实用新型通过在光源通光孔处增设聚焦镜片,能够将光源转变为聚焦的平行光,增大了光照区域的范围和光源的亮度,从而不会出现光照区域的边缘位置的图像较中心位置较暗的现象;此外,通过高度调节机构能够调节相机镜头到半导体元件的距离,可以适应不同厚度的半导体元件的检测。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 元件 检测 视觉 系统 改良 结构 | ||
【主权项】:
一种半导体元件检测机的视觉系统改良结构,包括一相机镜头,光源由光纤接口进入所述相机镜头的光源通光孔,再经由平面镜90度偏折反射后,从光源出口处照射在半导体元件上,其特征在于,该视觉系统改良结构还包括一高度调节机构,所述高度调节机构包括一固设于机台本体上的固定件和与所述固定件相对而设并能够沿所述固定件滑移的滑移件,所述相机镜头固设于所述滑移件上,所述相机镜头的光源通光孔处设有一聚焦镜片,光源在进入所述光源通光孔后经所述聚焦镜片聚焦汇集,再经由所述平面镜90度偏折反射后,从所述光源出口处照射在所述半导体元件上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造