[实用新型]一种温度控制装置有效
| 申请号： | 201420134086.2 | 申请日： | 2014-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN203773225U | 公开（公告）日： | 2014-08-13 |
| 发明（设计）人： | 张浩;朱克俭 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/67;G05D23/19 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种温度控制装置，包括：温控平台，用于放置硅片，所述温控平台的一侧设有一进水口，另一侧设有一出水口；升降机构，用于升降所述温控平台上的硅片；温度控制器，用于感知所述温控平台的温度。通过所述温度控制器实时监测所述温控平台的温度，控制温控水的流量来调节所述温控平台的温度，使得硅片与光刻机内部环境温度达到平衡后，所述升降机构升起将所述硅片送走，从而减小硅片由于温度差异引起的不同膨胀形变，提高光刻机的套刻精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 温度 控制 装置 | ||
【主权项】：
一种温度控制装置，应用于光刻机硅片传送接口处，其特征在于，包括：温控平台，用于放置硅片，所述温控平台的一侧设有一进水口，另一侧设有一出水口；升降机构，用于升降所述温控平台上的硅片；温度控制器，用于感知所述温控平台的温度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司，未经上海华力微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201420134086.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
