[实用新型]一种掩膜板有效
申请号: | 201420016940.5 | 申请日: | 2014-01-10 |
公开(公告)号: | CN203658725U | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 张家祥;姜晓辉;阎长江 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/38 | 分类号: | G03F1/38 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及掩膜技术领域,特别涉及一种掩膜板,该掩膜板使用寿命长,并可减轻曝光后半透光区对应的光刻胶厚度不均问题。本实用新型公开了一种掩膜板,包括:衬底基板,设置于所述衬底基板上的挡光掩膜层,以及开设于所述挡光掩膜层上的至少一个微孔组,每个所述微孔组在所述挡光掩膜层上形成一个半透光区,每个所述微孔组包括多个透光孔,每个所述透光孔可以增强与其相邻的透光孔边缘的光强度,使透过各透光孔的光线在半透光区均匀分布。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 | ||
【主权项】:
一种掩膜板,包括:衬底基板,设置于所述衬底基板上的挡光掩膜层,其特征在于,还包括:开设于所述挡光掩膜层上的至少一个微孔组,每个所述微孔组在所述挡光掩膜层上形成一个半透光区,每个所述微孔组包括多个透光孔,每个所述透光孔可增强与其相邻的透光孔边缘的光强度,以使透过各透光孔的光线在半透光区均匀分布。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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