[实用新型]一种掩膜板

说明书

技术领域

本实用新型涉及掩膜技术领域，特别涉及一种掩膜板。

背景技术

在显示面板如液晶显示面板的制造过程中，一般都要经过多次掩膜工艺以在基板上形成所需的图案，而掩膜次数越多所耗的制造成本也就越多，同时还可能产生其它不良，为此，目前常采用具有半透光区的掩膜板进行掩膜工艺，以减少掩膜的次数。

请参阅1a和图1b，其中，图1a为现有技术中一种掩膜板的主视图；图1b为图1a提供的掩膜板的侧视图。该掩膜板包括：衬底基板1，设置于衬底基板1上的挡光掩膜层2，以及开设于挡光掩膜层2的设定区域内的多个平行排布的狭缝3；通过在衬底基板1上设置有挡光掩膜层2使掩膜板具有透光区和不透光区，而挡光掩膜层2上多个狭缝3的存在使掩膜板具有半透光区。采用上述掩膜板进行一次掩膜工艺时，利用狭缝衍射原理，光线在通过各个狭缝3时，光通过量会减少，即达到半透光的效果，因此，采用上述掩膜板进行一次掩膜工艺时，相当于采用普通掩膜板进行2次或3次掩膜工艺，从而可以降低显示面板的生产成本，并可提高显示面板的良品率。

不过，在采用上述掩膜板进行掩膜工艺时，狭缝中心区域的光强度比边缘的光强度高，透过的光线在半透光区分布不均匀，导致光刻胶的感光不均匀，在曝光显影后留下的光刻胶的厚度不均匀，进而增加后续刻蚀工艺的难度。

请参阅2a和图2b，其中，图2a为现有技术中另一种掩膜板的主视图；图2b为图2a所提供的掩膜板的侧视图。该掩膜板包括：衬底基板1，设置于衬底基板1上的挡光掩膜层2，且挡光掩膜层2上开设有至少一个孔，每个孔内设置一个半透膜4；采用上述掩膜板进行掩膜工艺时，虽然可以使光刻胶的感光均匀，但该掩膜板中的半透膜4易损坏，使用寿命短，且挡光掩膜层2与半透膜4采用不同材料，制作过程较复杂，成本较高。

因此，如何提供一种使用寿命长、并可减轻曝光后半透光区对应的光刻胶厚度不均问题的掩膜板成为当前需要解决的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种使用寿命长、并可减轻曝光后半透光区对应的光刻胶厚度不均问题的掩膜板。

为了实现上述目的，本实用新型提供以下技术方案：

一种掩膜板，包括：衬底基板，设置于所述衬底基板上的挡光掩膜层，以及

开设于所述挡光掩膜层上的至少一个微孔组，每个所述微孔组在所述挡光掩膜层上形成一个半透光区，每个所述微孔组包括多个透光孔，每个所述透光孔可增强与其相邻的透光孔边缘的光强度，以使透过各透光孔的光线在半透光区均匀分布。

优选地，每个所述微孔组中的多个透光孔呈阵列状排布。

优选地，所述挡光掩膜层上开设有多个微孔组，且与不同的掩膜对象对应的不同微孔组中的透光孔的大小不同，以控制透过各微孔组的光通量。

优选地，所述透光孔为圆形孔。

较佳地，每个所述透光孔的直径为1um～3um。

优选地，相邻的两个所述透光孔之间的中心距为1um～6um。

优选地，所述衬底基板为钠钙玻璃基板、硼硅玻璃基板或石英玻璃基板。

优选地，所述挡光掩膜层为铬金属层或铒金属层。

采用本实用新型提供的掩膜板进行掩膜工艺时，每个微孔组中的多个透光孔以及位于各个透光孔之间的挡光掩膜层，会使一部分光从各个透光孔通过，另外一部分光被阻挡，从而控制光的通过量；而光在通过每个微孔组中的多个透光孔时，每个透光孔可以增强与其相邻的透光孔边缘的光强度，使给各个透光孔的边缘与中心的光强度基本相同，从而使与各个透光孔对应的光刻胶感光均匀，进而减轻曝光后半透光区对应的光刻胶厚度不均问题。

从上述技术方案可知，与现有的掩膜板相比，本实用新型提供的掩膜板不需要半透膜即可达到控制光通过量的目的，使用寿命长，且可减轻曝光后半透光区对应的光刻胶厚度不均问题。

附图说明

图1a为现有技术中一种掩膜板的主视图；

图1b为图1a所提供的掩膜板的侧视图；

图2a为现有技术中另一种掩膜板的主视图；

图2b为图2a所提供的掩膜板的侧视图；

图3a为本实用新型实施例提供的一种掩膜板的主视图；

图3b为图3a中A区的放大图。

附图标记：

1-衬底基板，    2-挡光掩膜层，    3-狭缝，    4-半透膜，

5-微孔组。

具体实施方式