[实用新型]一种掩膜板有效

专利信息
申请号: 201420016940.5 申请日: 2014-01-10
公开(公告)号: CN203658725U 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 张家祥;姜晓辉;阎长江 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G03F1/38 分类号: G03F1/38
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 掩膜板
【权利要求书】:

1.一种掩膜板,包括:衬底基板,设置于所述衬底基板上的挡光掩膜层,其特征在于,还包括:开设于所述挡光掩膜层上的至少一个微孔组,每个所述微孔组在所述挡光掩膜层上形成一个半透光区,每个所述微孔组包括多个透光孔,每个所述透光孔可增强与其相邻的透光孔边缘的光强度,以使透过各透光孔的光线在半透光区均匀分布。

2.如权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,每个所述微孔组中的多个透光孔呈阵列状排布。

3.如权利要求1或2所述的掩膜板,其特征在于,所述挡光掩膜层上开设有多个微孔组,且与不同的掩膜对象对应的不同微孔组中的透光孔的大小不同,以控制透过各微孔组的光通量。

4.如权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述透光孔为圆形孔。

5.如权利要求4所述的掩膜板,其特征在于,每个所述透光孔的直径为1um~3um。

6.如权利要求5所述的掩膜板,其特征在于,相邻的两个所述透光孔之间的中心距为1um~6um。

7.如权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述衬底基板为钠钙玻璃基板、硼硅玻璃基板或石英玻璃基板。

8.如权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述挡光掩膜层为铬金属层或铒金属层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420016940.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top