[实用新型]真空灭弧室用屏蔽罩封接结构有效

专利信息
申请号: 201420004656.6 申请日: 2014-01-06
公开(公告)号: CN203690205U 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 王强;肖红 申请(专利权)人: 成都凯赛尔电子有限公司
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610000 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了真空灭弧室用屏蔽罩封接结构,属于电真空器件制造技术领域,主要解决现有屏蔽罩与瓷壳封接后形成的应力较大的问题。本实用新型包括具有台阶(1)的瓷壳(2),与瓷壳(2)封接的屏蔽筒(3),其特征在于:所述屏蔽筒(3)通过封接环(4)与瓷壳(2)封接;所述封接环(4)为环形薄壁结构,且弯折形成一个以上的凸出件(5),该封接环(4)内径与屏蔽筒(3)外径相匹配、封接环(4)外径则与瓷壳(2)内径相匹配。本实用新型具有制造工艺简单,成本较低,真空灭弧室开断性能可靠,电场分布均匀,耐雷电冲击能力强,使用寿命长等优点。
搜索关键词: 真空 灭弧室用 屏蔽 罩封接 结构
【主权项】:
真空灭弧室用屏蔽罩封接结构,包括具有台阶(1)的瓷壳(2),与瓷壳(2)封接的屏蔽筒(3),其特征在于:所述屏蔽筒(3)通过封接环(4)与瓷壳(2)封接;所述封接环(4)为环形薄壁结构,且弯折形成一个以上的凸出件(5),该封接环(4)内径与屏蔽筒(3)外径相匹配、封接环(4)外径则与瓷壳(2)内径相匹配。
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