[实用新型]真空灭弧室用屏蔽罩封接结构有效

专利信息
申请号: 201420004656.6 申请日: 2014-01-06
公开(公告)号: CN203690205U 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 王强;肖红 申请(专利权)人: 成都凯赛尔电子有限公司
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610000 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 真空 灭弧室用 屏蔽 罩封接 结构
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种真空灭弧室的部件,属于电真空器件制造技术领域。

背景技术

12kV真空灭弧室常采用整体式瓷壳,这比两节式瓷壳降低了成本。整体式瓷壳的屏蔽罩封接是一项关键技术,直接影响着真空灭弧室的绝缘性能。目前屏蔽罩与瓷壳内壁直接封接是常见的一种屏蔽罩固定方式,但是由于热膨胀系数的差异,屏蔽罩与瓷壳封接后形成的应力较大;且由于瓷壳烧结过程形成的瓷壳椭圆度,使屏蔽罩不易放置到位而形成屏蔽罩偏斜的现象,进而影响到真空灭弧室的绝缘能力。

实用新型内容

为了解决现有屏蔽罩与瓷壳封接后形成的应力较大、影响真空灭弧室绝缘能力的问题,本实用新型提供了一种真空灭弧室用屏蔽罩封接结构。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:

真空灭弧室用屏蔽罩封接结构,包括具有台阶的瓷壳,与瓷壳封接的屏蔽筒,所述屏蔽筒通过封接环与瓷壳封接;所述封接环为环形薄壁结构,且弯折形成一个以上的凸出件,该封接环内径与屏蔽筒外径相匹配、封接环外径则与瓷壳内径相匹配。

为了实现更好地封接效果,所述瓷壳上与封接环封接处设置为金属化结构。

作为一种优选,所述凸出件为六个,均匀分布于封接环上。

作为另一种优选,所述封接环由无氧铜材料构成,其厚度为0.5mm。

进一步,所述屏蔽筒为一体成型结构且由直筒、连接于直筒下方的收缩筒组成;所述该封接环内径与收缩筒外径相匹配。

更进一步地,所述直筒与收缩筒连接处以及直筒与收缩筒端口处结构均为圆弧形。

作为最好地封接方式,所述封接环底面与台阶顶部平面封接、封接环外壁与瓷壳内壁封接,封接环内壁与收缩筒钎焊。

本实用新型与现有技术相比,具有以下优点及有益效果:

1、在本实用新型中屏蔽罩通过封接环能够可靠固定在瓷壳内壁上,封接应力小,屏蔽罩与瓷壳同轴度好,工频耐压和雷电冲击耐压能力高。

2、采用本实用新型结构的真空灭弧室开断性能可靠,电场分布均匀,使用寿命长。

3、本实用新型制造工艺简单,成本较低,且装配方便,适合推广应用。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图。

图2为图1中A处的放大结构示意图。

图3为本实用新型中封接环的结构示意图。

其中,图中附图标记对应的零部件名称为:

1-台阶,2-瓷壳,3-屏蔽筒,4-封接环,5-凸出件;

31-直筒,32-收缩筒。

具体实施方式

下面结合实施例及其附图,对本实用新型作进一步地详细说明,但本实用新型的实施方式不限于此。

实施例

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

真空灭弧室用屏蔽罩封接结构,包括有若干凸出件5的封接环4、具有台阶1的瓷壳2、与封接环配合的屏蔽筒3,该结构清楚显示于图1中。同时,图2所示,该封接环4位于台阶1的上方,通过封接环实现瓷壳2与屏蔽筒3之间的封接,有效减少屏蔽筒与瓷壳直接封接后形成的封接应力,进而使真空灭弧室的开断性能更加可靠,使真空灭弧室内电场分布更加均匀,增强耐雷电冲击能力,增加使用寿命。本实用新型中封接环的具体结构如下:

如图3所示,该封接环为薄壁结构,其弯折形成若干个凸出件5,在本实施例中优选为六个,均匀分布于封接环上。该封接环上弯折形成的凸出件5侧面与瓷壳内壁封接,该封接环底面与台阶1顶部平面封接,封接环内壁与屏蔽筒封接。

为了能达到最好地封接效果,本实用新型中瓷壳上与封接环封接处设置为金属化结构。即,如图2所示,该瓷壳内壁上与封接环封接处设置问金属化结构,瓷壳的台阶1与封接环相连的部位也设置为金属化结构。

为了能更好地减少瓷壳与屏蔽筒之间的封接应力,该封接环优选为由无氧铜材料构成。所述封接环的厚度则优选为0.5mm。

为了能增加屏蔽罩与瓷壳同轴度,进一步提高工频耐压和雷电冲击耐压能力,如图2所示,所述屏蔽筒3由直筒31、连接于直筒31下方的收缩筒32组成,且该屏蔽筒3为一体成型结构,该收缩筒32外径与封接环4内径相匹配。所述直筒31与收缩筒32连接处以及直筒31与收缩筒32端口处结构均为圆弧形。

本实施例中封接环4、瓷壳2、屏蔽筒3之间的具体设置如下:

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