[发明专利]一种新型特效硅片清洗液制备方法

摘要

本发明提供的一种新型特效硅片清洗液制备方法制备的清洗剂，配方简单易于操作，在清洗后，会在硅片表面生成一层保护膜，可提高硅片的抗污能力，同时去污力强，硅片的清洗速度快，提高了硅片清洗的清洁率，并且对环境无污染。

主权项

一种新型特效硅片清洗液制备方法制备方法，其特征在于，所述制备方法如下：1.按重量分数称取原材料如下：氟化铵7‑10份、三羟乙基胺7‑12份、阴离子活性剂5‑8份、非离子表面活性剂3‑5份、盐酸3‑4份、葡萄糖酸钠10—15份和助洗剂15—17份；2.将三羟乙基胺加入到重量分数为80%的温度为33℃的水中，得到基础液；3.用搅拌机搅拌基础液，同时依次缓慢加入氟化铵、阴离子活性剂和非离子表面活性剂，随后再搅拌20分钟，并过滤，得混合液A；4.继续搅拌混合液A，同时依次缓慢加入盐酸、葡萄糖酸钠和助洗剂，随后再搅拌25分钟，并过滤，得混合液B；5.将混合液B放入蒸发器中，回转蒸馏20分钟，提取上清液B；6.将上清液B放入过滤离心机中在1750r/s下进行离心，时间为15分钟，最终得到清洗液。