[发明专利]一种新型特效硅片清洗液制备方法

权利要求书

1.一种新型特效硅片清洗液制备方法制备方法，其特征在于，所述制备方法如下：

1.按重量分数称取原材料如下：

氟化铵7-10份、三羟乙基胺7-12份、阴离子活性剂5-8份、非离子表面活性剂3-5份、盐酸3-4份、葡萄糖酸钠10—15份和助洗剂15—17份；

2.将三羟乙基胺加入到重量分数为80%的温度为33℃的水中，得到基础液；

3.用搅拌机搅拌基础液，同时依次缓慢加入氟化铵、阴离子活性剂和非离子表面活性剂，随后再搅拌20分钟，并过滤，得混合液A；

4.继续搅拌混合液A，同时依次缓慢加入盐酸、葡萄糖酸钠和助洗剂，随后再搅拌25分钟，并过滤，得混合液B；

5.将混合液B放入蒸发器中，回转蒸馏20分钟，提取上清液B；

6.将上清液B放入过滤离心机中在1750r/s下进行离心，时间为15分钟，最终得到清洗液。

2.如权利要求1所述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其特征在于，所述阴离子活性剂为十二烷基磺酸钠和十二烷基硫酸钠按1-1.2:1.4-1.5比例混合而成。

3.如权利要求1所述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其特征在于，所述非离子活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按1-1.7:1.3-1.5比例混合而成。

4.如权利要求1所述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其特征在于，所述助洗剂为氢氧化钠。

5.如权利要求1所述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其特征在于，所述的盐酸为工业盐酸。

6.如权利要求1所述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其特征在于，所述搅拌机为KD-20搅拌机。