[发明专利]一种新型特效硅片清洗液制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种清洗液，特别涉及一种新型特效硅片清洗液制备方法。

背景技术

清洗最为硅片的一个生产工序之一，清洗的好坏程度对硅片的使用性能有着很大的影响。清洗的主要目的是为了清洗掉切割过程中产生的沙粒，残留的切削磨料、金属离子及指纹等，使硅片表面达到无腐蚀、无氧化、无残留等技术指标。传统的硅片清洗，由于各个方法不一样，采用的清洗液也不一样。现有技术中的清洗液清洗效果较差，对于硅片表面的污渍难以做到更好的去除，降低了硅片的使用效果。

发明内容

      针对上述问题，本发明提出了一种新型特效硅片清洗液制备方法。

为解决以上技术问题，本发明提供的技术方案是:

一种新型特效硅片清洗液制备方法，其特征在于，所述制备方法如下：

1.按重量分数称取原材料如下：

氟化铵7-10份、三羟乙基胺7-12份、阴离子活性剂5-8份、非离子表面活性剂3-5份、盐酸3-4份、葡萄糖酸钠10—15份和助洗剂15—17份；

2.将三羟乙基胺加入到重量分数为80%的温度为33℃的水中，得到基础液；

3.用搅拌机搅拌基础液，同时依次缓慢加入氟化铵、阴离子活性剂和非离子表面活性剂，随后再搅拌20分钟，并过滤，得混合液A；

4.继续搅拌混合液A，同时依次缓慢加入盐酸、葡萄糖酸钠和助洗剂，随后再搅拌25分钟，并过滤，得混合液B；

5.将混合液B放入蒸发器中，回转蒸馏20分钟，提取上清液B；

6.将上清液B放入过滤离心机中在1750r/s下进行离心，时间为15分钟，最终得到清洗液。

上述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其中，所述阴离子活性剂为十二烷基磺酸钠和十二烷基硫酸钠按1-1.2:1.4-1.5比例混合而成。

上述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其中，所述非离子活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按1-1.7:1.3-1.5比例混合而成。

上述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其中，所述助洗剂为氢氧化钠。

上述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其中，所述的盐酸为工业盐酸。

上述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其中，所述搅拌机为KD-20搅拌机。

本发明的有益效果为：

本发明提供的一种新型特效硅片清洗液制备方法制备的清洗剂，配方简单易于操作，在清洗后，会在硅片表面生成一层保护膜，可提高硅片的抗污能力，同时去污力强，硅片的清洗速度快，提高了硅片清洗的清洁率，并且对环境无污染。

具体实施方式

实施例一

一种新型特效硅片清洗液制备方法，其特征在于，所述制备方法如下：

1.按重量分数称取原材料如下：

氟化铵9份、三羟乙基胺   10份、阴离子活性剂6份、非离子表面活性剂4份、盐酸3份、葡萄糖酸钠12份和助洗剂15份;

2.将三羟乙基胺加入到重量分数为80%的温度为33℃的水中，得到基础液；

3.用搅拌机搅拌基础液，同时依次缓慢加入氟化铵、阴离子活性剂和非离子表面活性剂，随后再搅拌20分钟，并过滤，得混合液A；

4.继续搅拌混合液A，同时依次缓慢加入盐酸、葡萄糖酸钠和助洗剂，随后再搅拌25分钟，并过滤，得混合液B；

5.将混合液B放入蒸发器中，回转蒸馏20分钟，提取上清液B；

6.将上清液B放入过滤离心机中在1750r/s下进行离心，时间为15分钟，最终得到清洗液。

其中，所述阴离子活性剂为十二烷基磺酸钠和十二烷基硫酸钠按1.2:1.45比例混合而成，所述非离子活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按1.5:1.4比例混合而成，所述助洗剂为氢氧化钠，所述的盐酸为工业盐酸。

实施例二

一种新型特效硅片清洗液制备方法，其特征在于，所述制备方法如下：

1.按重量分数称取原材料如下：

氟化铵7份、三羟乙基胺8份、阴离子活性剂6份、非离子表面活性剂3份、盐酸4份、葡萄糖酸钠15份和助洗剂16份；

2.将三羟乙基胺加入到重量分数为80%的温度为33℃的水中，得到基础液；

3.用搅拌机搅拌基础液，同时依次缓慢加入氟化铵、阴离子活性剂和非离子表面活性剂，随后再搅拌20分钟，并过滤，得混合液A；

4.继续搅拌混合液A，同时依次缓慢加入盐酸、葡萄糖酸钠和助洗剂，随后再搅拌25分钟，并过滤，得混合液B；