[发明专利]一种液晶显示装置、薄膜晶体管阵列基板及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201410844512.6 申请日: 2014-12-30
公开(公告)号: CN104600079A 公开(公告)日: 2015-05-06
发明(设计)人: 文亮 申请(专利权)人: 厦门天马微电子有限公司;天马微电子股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 刘松
地址: 361101 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开一种液晶显示装置、薄膜晶体管阵列基板及其制作方法,包括:基板,所述基板包括感光间隔物对应区域,设置在所述基板上的多个薄膜晶体管,所述多个薄膜晶体管分别包括源极和漏极,覆盖所述多个薄膜晶体管的第一平坦化层,所述第一平坦化层中对应于漏极区域处设置有平坦化层开孔,所述漏极暴露在所述平坦化层开孔中;所述第一平坦化层上设置有与所述漏极形成金属接触的像素电极层;所述像素电极层上设置有第二平坦化层,所述第二平坦化层填充所述平坦化层开孔。本发明解决了现有技术中液晶显示器中薄膜晶体管阵列基板上平坦化层不平坦会导致的液晶显示器产生色偏、漏光的问题。
搜索关键词: 一种 液晶 显示装置 薄膜晶体管 阵列 及其 制作方法
【主权项】:
一种薄膜晶体管阵列基板的制作方法,其特征在于,该方法包括:提供一基板,所述基板包括感光间隔物对应区域;在所述基板上形成多个薄膜晶体管,所述多个薄膜晶体管分别包括源极和漏极;在所述多个薄膜晶体管上形成覆盖所述多个薄膜晶体管的第一平坦化层,刻蚀所述第一平坦化层形成平坦化层开孔,所述平坦化层开孔暴露出所述漏极;在所述第一平坦化层上形成像素电极层,所述像素电极层通过所述平坦化层开孔与所述漏极接触;在所述像素电极层上形成第二平坦化层,所述第二平坦化层填充所述平坦化层开孔;使用掩膜对所述第二平坦化层进行曝光,并对曝光后的所述第二平坦化层进行显影,以去除所述感光间隔物对应区域处的第二平坦化层。
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