[发明专利]一种液晶显示装置、薄膜晶体管阵列基板及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示器技术领域，尤其涉及一种液晶显示装置、薄膜晶体管阵列基板及其制作方法。

背景技术

在LCD(liquid crystal display，液晶显示器)中，液晶层通常被设置在薄膜晶体管阵列基板和彩色滤光片基板之间。在将薄膜晶体管阵列基板与彩色滤光片基板结合到一起时，为了控制液晶层的厚度，需在两片基板之间设置感光间隔物加以支撑。同时，设置的感光间隔物还可以使得LCD在受到外力压迫时能够恢复原状，起到保护LCD的作用。

如图1所示，为现有技术中液晶显示器的俯视图，可以看出感光间隔物111的设置区域位于垂直黑矩阵105和水平黑矩阵106交叉处。图1中，与垂直黑矩阵105平行的是数据线102，与水平黑矩阵106平行的是扫描线103。数据线102与扫描线103围成的区域为像素显示区域，其中设置了一层像素电极层104。

图2是现有技术中液晶显示器的剖面图，其中，彩色滤光片基板107和薄膜晶体管阵列基板108相对设置，在薄膜晶体管阵列基板108的表面覆盖了一层平坦化层109，在平坦化层109内设置有平坦化层开孔110。平坦化层开孔110是为了使得覆盖在平坦化层109上的像素电极层104能够与平坦化层109覆盖的漏极113形成金属接触。感光间隔物111和辅助感光间隔物112位于薄膜晶体管阵列基板108和彩色滤光片基板107之间，起到保护和支撑的作用。现有技术中，一般将感光间隔物111和辅助感光间隔物112的固定端设置在彩色滤光片基板107的内侧，感光间隔物111和辅助感光间隔物112的自由端朝向薄膜晶体管阵列基板108的内侧。

感光间隔物111在薄膜晶体管阵列基板108上的设置区域位于两个相邻的平坦化层开孔110之间，一般位于栅极114上方。由于液晶显示器的像素密度越来越高，平坦化层开孔110之间的间隔越来越小，同时平坦化层109的平坦化程度降低。此时液晶显示器受到外力作用时，由于感光间隔物111站立的位置不平坦，导致感光间隔物111容易被压弯，造成液晶显示器变形，或者感光间隔物111滑入平坦化层开孔110，使得液晶显示器产生色偏、漏光等缺陷。

发明内容

本发明实施例提供一种薄膜晶体管阵列基板的制作方法，该方法包括：提供一基板，所述基板包括感光间隔物对应区域；在所述基板上形成多个薄膜晶体管，所述多个薄膜晶体管分别包括源极和漏极；在所述多个薄膜晶体管上形成覆盖所述多个薄膜晶体管的第一平坦化层，刻蚀所述第一平坦化层形成平坦化层开孔，所述平坦化层开孔暴露出所述漏极；在所述第一平坦化层上形成像素电极层，所述像素电极层通过所述平坦化层开孔与所述漏极接触；在所述像素电极层上形成第二平坦化层，所述第二平坦化层填充所述平坦化层开孔；使用掩膜对所述第二平坦化层进行曝光，并对曝光后的所述第二平坦化层进行显影，以去除所述感光间隔物对应区域处的第二平坦化层、保留所述平坦化层开孔位置处的第二平坦化层。

本发明实施例还提供另一种薄膜晶体管阵列基板的制作方法，该方法包括：提供一基板，所述基板包括感光间隔物对应区域；在所述基板上形成多个薄膜晶体管，在所述多个薄膜晶体管上形成覆盖所述多个薄膜晶体管的第一平坦化层；所述多个薄膜晶体管分别包括源极和漏极，将覆盖所述漏极区域的所述第一平坦化层刻蚀，形成平坦化层开孔，所述平坦化层开孔暴露出所述漏极；在所述第一平坦化层上形成像素电极层，所述像素电极层通过所述平坦化层开孔与所述漏极接触；在所述像素电极层上形成第二平坦化层，以使所述第二平坦化层填充所述平坦化层开孔，并且所述第二平坦化层还覆盖所述第一平坦化层。

本发明实施例还提供一种薄膜晶体管阵列基板的制作方法，该方法包括：提供一基板，所述基板包括感光间隔物对应区域；在所述基板上形成多个薄膜晶体管，所述多个薄膜晶体管分别包括源极和漏极；在所述多个薄膜晶体管上形成覆盖所述多个薄膜晶体管的第一平坦化，刻蚀所述第一平坦化层刻蚀形成平坦化层开孔，所述平坦化层开孔暴露出所述漏极；在所述第一平坦化层上形成像素电极层，所述像素电极层通过所述平坦化层开孔与所述漏极接触；在所述像素电极层上形成第二平坦化层，所述第二平坦化层填充所述平坦化层开孔，且所述第二平坦化层的厚度等于感光间隔物的高度；使用掩膜对所述第二平坦化层进行曝光，以保留所述感光间隔物对应区域的第二平坦化层，得到由所述感光间隔物对应区域的第二平坦化层所形成的感光间隔物。