[发明专利]一种金属掩模版清洗装置在审
| 申请号： | 201410841158.1 | 申请日： | 2014-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN104550104A | 公开（公告）日： | 2015-04-29 |
| 发明（设计）人： | 李春良;林佳龙;覃事建;匡友元 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B3/14;H01L51/56 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及OLED技术领域，尤其是提供一种金属掩模版清洗装置，其包括：至少一个清洗槽，其装有用于清洗所述金属掩模版第一药液；至少一个分离槽，用于清洗所述金属掩模版后、含有有机杂质的所述第二药液储存和再生；所述第二药液液面高于所述第一药液液面；装设于所述清洗槽和所述分离槽之间的过滤器，用于使所述第二药液通过所述过滤器而恢复对所述金属掩模版的清洗能力，再生为第一药液。本发明解决了OLED金属掩模版现有直排式清洗方式清洗效果差、清洗周期长、药液不可循环利用等问题，还可根据工艺条件和实际需要，对清洗槽、分离槽的进行不同组合方式调整，保证连续不断的清洗作业，实现避免药液直排浪费的同时提高清洗效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 模版 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种金属掩模版清洗装置，其特征在于，包括至少一个清洗槽(10)，其装有用于清洗所述金属掩模版(11)第一药液(A)；至少一个分离槽(20)，用于清洗所述金属掩模版(11)后、含有有机杂质的所述第二药液(B)储存和再生；所述第二药液(B)液面高于所述第一药液(A)液面；装设于所述清洗槽(10)和所述分离槽(20)之间的过滤器(30)，用于使所述第二药液(B)通过所述过滤器(30)而恢复对所述金属掩模版(11)的清洗能力，再生为第一药液(A)。
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