[发明专利]一种金属掩模版清洗装置

权利要求书

1.一种金属掩模版清洗装置，其特征在于，包括

至少一个清洗槽(10)，其装有用于清洗所述金属掩模版(11)第一药液(A)；

至少一个分离槽(20)，用于清洗所述金属掩模版(11)后、含有有机杂质的所述第二药液(B)储存和再生；所述第二药液(B)液面高于所述第一药液(A)液面；

装设于所述清洗槽(10)和所述分离槽(20)之间的过滤器(30)，用于使所述第二药液(B)通过所述过滤器(30)而恢复对所述金属掩模版(11)的清洗能力，再生为第一药液(A)。

2.根据权利要求1所述金属掩模版清洗装置，其特征在于，所述过滤器(30)装设有滤网、微滤膜、超滤膜或纳滤膜中至少一种。

3.根据权利要求2所述金属掩模版清洗装置，其特征在于，所述第一药液(A)含有环己酮或四氟乙烷；所述有机杂质的相对分子质量为100～2000。

4.根据权利要求1所述金属掩模版清洗装置，其特征在于，两个或两个以上的分离槽之间还装设有所述过滤器，用于对所述第二药液(B)进行分级处理。

5.根据权利要求1或4所述金属掩模版清洗装置，其特征在于，所述清洗槽(10)与所述分离槽(20)之间还设有输液组件(40)，用于将清洗槽(10)中清洗金属掩模版(11)后的第二药液(B)输送至所述分离槽(20)中。

6.根据权利要求1或4所述金属掩模版清洗装置，其特征在于，所述分离槽(20)还装设有增压器，用于对所述第二药液(B)加压，提高所述第二药液(B)通过所述过滤器(30)的效率。