[发明专利]一种金属掩模版清洗装置

说明书

技术领域

本发明涉及有机发光二极管的技术领域，尤其是指这种OLED金属掩模版的清洗方法。

背景技术

OLED(有机发光二极管)作为新一代的固态自发光显示技术，相较于液晶显示具有超薄、响应度高、对比度高、功耗低等优势，近几年产业化速度突飞猛进。

目前OLED主流的制备技术和方法是蒸镀法，即在真空腔体内加热有机小分子(有机蒸镀材料)，使其升华或者熔融气化成材料蒸汽，透过金属光罩的开孔沉积在玻璃基板上。这些有机小分子的相对分子质量通常在100～1000之间，也有的有机小分子相对分子量接近2000。常见的有机蒸镀材料有：芳香族化合物，例如苯、8-羟基喹啉铝(AIQ)、1,2,4-三唑衍生物(TAZ)、以及PBD、Beq2、DPVBi等；芳香脂、芳香多胺类、三苯胺衍生物，又例如：N，N-双(3-甲基苯基)-N，N-二苯基-1,1-二苯基-4,4-二胺(简称TPD)、N，N-双(1-奈基)-N，N-二苯基-1,1-二苯基-4,4-二胺(简称NPD)等)。而这种OLED金属掩模版具有精细、脆弱、超薄等特点，经过一段时间的蒸镀其金属掩模版上面的有机材料累积到一程度后则需要清洗。

目前金属掩模版清洗工艺普遍采用湿式药液浸泡清洗，清洗后的药液采取直接排放，浪费程度高，清洗效率低。

发明内容

本采用清洗和再生一体化的方式，纯化过滤金属掩模版的清洗药液，解决OLED金属掩模版清洗过程中药液不可以循环利用、清洗效率低等问题，

这种金属掩模版清洗装置包括，

至少一个清洗槽，其装有用于清洗所述金属掩模版第一药液；

至少一个分离槽，用于清洗所述金属掩模版后、含有有机杂质的所述第二药液储存和再生；所述第二药液液面高于所述第一药液液面；

装设于所述清洗槽和所述分离槽之间的过滤器，用于使所述第二药液通过所述过滤器而恢复对所述金属掩模版的清洗能力，再生为第一药液。

优选地，所述过滤器装设有滤网、微滤膜、超滤膜或纳滤膜中至少一种。

优选地，所述第一药液含有环己酮或四氟乙烷；所述有机杂质的相对分子质量为100～2000。

优选地，两个或两个以上的分离槽之间还装设有所述过滤器，用于对所述第二药液进行分级处理。

优选地，所述清洗槽与所述分离槽之间还设有输液组件，用于将清洗槽中清洗金属掩模版后的第二药输液组件至所述分离槽中。

优选地，所述分离槽还装设有增压器，用于对所述第二药液加压，提高所述第二药液通过所述过滤器的效率。

有益效果：

本发明通过提供一清洗装置，解决OLED金属掩模版现有直排式清洗方式清洗效果差、清洗周期长、药液不可循环利用等问题。本发明的清洗装置灵活多变，可根据工艺条件和实际需要，对清洗槽、分离槽的进行不同组合方式调整，保证连续不断的清洗作业，实现避免药液直排浪费的同时提高清洗效率。

附图说明

图1为本发明实施例1的清洗装置结构示意图。

图2为本发明实施例2的清洗装置结构示意图。

具体实施方式

下面，将结合附图对本发明实施例作详细说明。

实施例1

如图1所示，本实施例的OLED金属掩模版采用双槽设计，即具体包括：清洗槽10、分离槽20以及连接于所述清洗槽10、分离槽20之间的过滤器30。

其中，清洗槽10其装有用于清洗所述金属掩模版11第一药液A。在本实施例中，第一药液A的有效成分为环己酮(一般浓度达到98vt％)，其对金属掩模版11具有良好的切入性，与常用的有机蒸镀材料具有良好的相容性，且沸点高、不易挥发等特性使得环己酮成为常用的金属掩模版清洗的主要成分。在实际使用中，为了适应金属掩模版11的构型和清洗方式，在本实施例中清洗槽10设计为“高而窄”的筒状或箱状结构。这种清洗槽10一方面能减缓第一药液A的挥发速度，另一方面使得金属掩模版11在其中进行上下往复运动的清洗过程，始终保证能浸润在第一药液A中。

分离槽20用于储存所述金属掩模版11清洗后、含有有机杂质的第二药液B。金属掩膜板11的有机物质洗脱并进入第一药液A后形成第二药液B，故此，所述第二药液B除了含有环己酮，还含有从金属掩模版11上洗脱下来的有机杂质，即蒸镀在金属掩模版11上面的有机小分子，例如芳香族化合物(例如苯、AIQ、TAZ、PBD、Beq2、DPVBi等)、芳香脂、芳香多胺类、三苯胺衍生物(例如TPD、NPD、NPB等)这些有机小分子的相对分子质量通常在100～1000之间。