[发明专利]一种高开口率掩膜板的制备方法及掩膜板有效
| 申请号： | 201410809458.1 | 申请日： | 2014-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN104505471B | 公开（公告）日： | 2017-12-29 |
| 发明（设计）人： | 张秀玉;刘周英;党鹏乐;张小宝 | 申请（专利权）人： | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司11250 | 代理人： | 彭秀丽 |
| 地址： | 215300 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种高开口率掩膜板的制备方法，包括如下步骤S1、在掩膜板表面涂布光固化材料，并对掩膜板主体区和连接桥保留区的光固化材料进行紫外光照射固化形成低聚合物，清洗去除连接桥待腐蚀区表面未被固化的光固化材料后，再将表面涂布有低聚合物的掩膜板浸入到腐蚀性溶液中去除掉连接桥待腐蚀区，得到表面涂布有低聚合物的掩膜板；S2去除掩膜板表面的低聚合物，即得高开口率掩膜板。本发明通过减小掩膜板主体连接桥的宽度，可以有效增大掩膜板的开口率，具体大概可以使开口率增大30‑50％。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 开口 率掩膜板 制备 方法 掩膜板 | ||
【主权项】：
一种高开口率掩膜板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1：在掩膜板表面涂布光固化材料，并对掩膜板主体区(02)和连接桥保留区(05)的光固化材料进行紫外光照射固化形成低聚合物，清洗去除连接桥待腐蚀区(04)表面未被固化的光固化材料；S2、将步骤S1制备的表面涂布有低聚合物的掩膜板浸入到腐蚀性溶液中去除掉连接桥待腐蚀区(04)，得到表面涂布有低聚合物的高开口率掩膜板；S3：去除掩膜板表面的低聚合物，即得高开口率掩膜板。
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