[发明专利]一种LTPS像素单元及其制造方法有效
申请号: | 201410768769.8 | 申请日: | 2014-12-12 |
公开(公告)号: | CN104466020B | 公开(公告)日: | 2017-12-15 |
发明(设计)人: | 胡宇彤;杜鹏 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 | 代理人: | 何青瓦 |
地址: | 518000 广东省深圳市光明新区公*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种LTPS像素单元及其制造方法,该方法包括以下步骤在基板上形成缓冲层;在缓冲层上形成半导体图案和公共电极图案;在半导体图案上依次形成第一绝缘层、栅极图案和第二绝缘层;在第二绝缘层上形成源极图案和漏极图案,源极图案和漏极图案经第一绝缘层和第二绝缘层上的接触孔与半导体图案电连接;在第二绝缘层上形成像素电极图案,像素电极图案与源极图案或漏极图案电连接。由此,可以节省成本,并提高制程良率。 | ||
搜索关键词: | 一种 ltps 像素 单元 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种LTPS像素单元的制造方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:提供一基板;在所述基板上形成缓冲层;在缓冲层上形成间隔设置的半导体图案和公共电极图案;在所述半导体图案上依次形成第一绝缘层、栅极图案和第二绝缘层,其中,所述栅极图案位于所述半导体图案的正上方,所述第一绝缘层和第二绝缘层进一步覆盖所述公共电极图案;在所述第二绝缘层上形成源极图案和漏极图案,所述源极图案和所述漏极图案分别经所述第一绝缘层和第二绝缘层上的第一接触孔与所述半导体图案电连接;在所述第二绝缘层上形成像素电极图案,其中所述像素电极图案不通过导通孔直接与所述源极图案或漏极图案电连接;在所述像素电极图案、所述源极图案、所述漏极图案、所述第二绝缘层上形成钝化层;其中,所述公共电极图案与所述漏极图案或者所述源极图案均不电连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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