[发明专利]一种提高难熔金属制品发射率的处理方法

摘要

本发明属于金属制品表面处理领域，特别涉及一种提高难熔金属制品发射率的处理方法，该方法通过预处理后的难熔金属基体材料的表面进行等离子体喷涂处理和热处理，提高难熔金属制品的发射率。本发明在使金属基体材料与金属涂层具有良好的结合，可提高材料的发射率；对喷涂后的制品进行热处理，消除内应力，并进一步提高涂层附着力。各个步骤间协同作用，并选用适当的参数，共同提高了产品质量：提高了难熔金属制品发射率，加强了涂层和基体间的结合力。

主权项

1.一种提高难熔金属制品发射率的处理方法，其特征在于：该处理方法包括以下步骤：等离子体喷涂步骤：对经过预处理的难熔金属基体材料的表面进行等离子体喷涂处理，得到喷涂后的难熔金属制品；热处理步骤：将所述喷涂后的难熔金属制品进行热处理，得到热处理后的难熔金属制品；其中，所述难熔金属基体材料为含有钨、钼、铼、钽中的一种或多种元素的金属基体材料；所述等离子体喷涂处理中，采用的等离子体喷涂金属粉末为：与所述难熔金属基体材料的材质相同的难熔金属粉末，或者把与所述难熔金属基体材料的材质相同的难熔金属粉末和与所述难熔金属基体材料的材质形成互溶的难熔金属合金粉末作为所述等离子体喷涂金属粉末；所述等离子体喷涂金属粉末的粒度为1.0‑30微米，电弧功率为10～80KW、主气体流量为10～80L/min、距离为5～50cm、角度为10～90°、送粉速率为3～30g/min，涂层厚度为0.1～1.0mm。