[发明专利]一种提高难熔金属制品发射率的处理方法

权利要求书

1.一种提高难熔金属制品发射率的处理方法，其特征在于：该处理方法包括以下步骤：

等离子体喷涂步骤：对经过预处理的难熔金属基体材料的表面进行等离子体喷涂处理，得到喷涂后的难熔金属制品；

热处理步骤：将所述喷涂后的难熔金属制品进行热处理，得到热处理后的难熔金属制品；

其中，

所述难熔金属基体材料为含有钨、钼、铼、钽中的一种或多种元素的金属基体材料；

所述等离子体喷涂处理中，采用的等离子体喷涂金属粉末为：与所述难熔金属基体材料的材质相同的难熔金属粉末，或者把与所述难熔金属基体材料的材质相同的难熔金属粉末和与所述难熔金属基体材料的材质形成互溶的难熔金属合金粉末作为所述等离子体喷涂金属粉末；

所述等离子体喷涂金属粉末的粒度为1.0-30微米，电弧功率为10～80KW、主气体流量为10～80L/min、距离为5～50cm、角度为10～90°、送粉速率为3～30g/min，涂层厚度为0.1～1.0mm。

2.根据权利要求1所述提高难熔金属制品发射率的处理方法，其特征在于：所述预处理，包括对所述难熔金属基体材料的表面进行清洗处理和喷砂处理。

3.根据权利要求2所述提高难熔金属制品发射率的处理方法，其特征在于：所述清洗处理，包括物理清洗处理和/或化学清洗处理。

4.根据权利要求2所述提高难熔金属制品发射率的处理方法，其特征在于：所述喷砂处理，采用刚玉作为喷砂介质，目数为10～150目、压力为0.1～1.5MPa、喷砂距离为5～60cm、角度为5～90°。

5.根据权利要求4所述提高难熔金属制品发射率的处理方法，其特征在于：所述喷砂处理，采用刚玉作为喷砂介质，目数为20～120目、压力为0.2～1.0MPa、喷砂距离为10～50cm、角度为10～80°。

6.根据权利要求1所述提高难熔金属制品发射率的处理方法，其特征在于：所述等离子体喷涂处理中，采用的等离子体喷涂金属粉末的粒度为3.5-20微米。

7.根据权利要求1所述提高难熔金属制品发射率的处理方法，其特征在于：所述等离子体喷涂处理中，电弧功率为20～60KW、主气体流量为20～50L/min、距离为10～30cm、角度为30～90°、送粉速率为5～25g/min，涂层厚度为0.1～0.5mm。

8.根据权利要求1所述提高难熔金属制品发射率的处理方法，其特征在于：所述热处理在还原或惰性气氛保护下进行，温度为1000-2500℃，时间为3-8小时。

9.根据权利要求8所述提高难熔金属制品发射率的处理方法，其特征在于：所述热处理在还原或惰性气氛保护下进行，温度为1500-2100℃，时间为4-6小时。