[发明专利]紫外发光二极管和其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410705184.1 申请日: 2014-11-27
公开(公告)号: CN104681679B 公开(公告)日: 2018-11-16
发明(设计)人: 朴起延;许政勋;金华睦;韩昌锡;崔孝植 申请(专利权)人: 首尔伟傲世有限公司
主分类号: H01L33/12 分类号: H01L33/12;H01L33/32;H01L33/00
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 韩芳;邱玲
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 提供了一种紫外发光二极管和制备其的方法。发光二极管包括介于n型氮化物基半导体层和p型氮化物基半导体层之间的有源区,其中所述有源区包括多个包含Al的阻挡层,多个包含Al的阱层且其与阻挡层交替排列,和至少一个调节层。每个调节层位于阱层和阻挡层之间并邻近阱层,且其由二元氮化物半导体制成。调节层的设计可以减少有源区的应力,因此使得阱层和/或阻挡层的组成得到均一的控制。
搜索关键词: 紫外 发光二极管 制备 方法
【主权项】:
1.一种紫外发光二极管,包括:介于n型氮化物基半导体层和p型氮化物基半导体层之间的有源区,所述有源区包括:多个包含Al的阻挡层;多个包含Al的阱层,且其与阻挡层交替排列;和至少一个调节层,每个调节层位于阱层和阻挡层之间,邻近阱层,且其由二元氮化物半导体制成,其中,所述至少一个调节层包括邻接阱层的阱‑调节层,位于阱层的朝向n型氮化物基半导体层的一侧,其中,邻接阱‑调节层的阻挡层为梯度‑组成的层,具有向着阱‑调节层增加的Al含量,其中,所述紫外发光二极管还包括衬底,n型氮化物基半导体层和p型氮化物基半导体层以及有源区设置在衬底上。
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