[发明专利]紫外发光二极管和其制备方法有效
| 申请号: | 201410705184.1 | 申请日: | 2014-11-27 |
| 公开(公告)号: | CN104681679B | 公开(公告)日: | 2018-11-16 |
| 发明(设计)人: | 朴起延;许政勋;金华睦;韩昌锡;崔孝植 | 申请(专利权)人: | 首尔伟傲世有限公司 |
| 主分类号: | H01L33/12 | 分类号: | H01L33/12;H01L33/32;H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 韩芳;邱玲 |
| 地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 紫外 发光二极管 制备 方法 | ||
1.一种紫外发光二极管,包括:
介于n型氮化物基半导体层和p型氮化物基半导体层之间的有源区,
所述有源区包括:
多个包含Al的阻挡层;
多个包含Al的阱层,且其与阻挡层交替排列;和
至少一个调节层,每个调节层位于阱层和阻挡层之间,邻近阱层,且其由二元氮化物半导体制成,
其中,所述至少一个调节层包括邻接阱层的阱-调节层,位于阱层的朝向n型氮化物基半导体层的一侧,
其中,邻接阱-调节层的阻挡层为梯度-组成的层,具有向着阱-调节层增加的Al含量,
其中,所述紫外发光二极管还包括衬底,n型氮化物基半导体层和p型氮化物基半导体层以及有源区设置在衬底上。
2.根据权利要求1的紫外发光二极管,其中所述二元氮化物半导体包括AlN。
3.根据权利要求1的紫外发光二极管,其中所述至少一个调节层包括邻接阻挡层的阻挡-调节层,位于阻挡层的朝向n型氮化物基半导体层的一侧。
4.根据权利要求1的紫外发光二极管,其中所述多个阻挡层和所述多个阱层由AlInGaN或AlGaN制成。
5.一种紫外发光二极管包括:
介于n型氮化物基半导体层和p型氮化物基半导体层之间的有源区,
所述有源区包括:
多个包含Al的阻挡层;和
多个包含Al的阱层,且其与阻挡层交替排列,
至少一个阻挡层包括梯度-组成的层,形成于阱层之间,且具有向着p型氮化物基半导体层增加的Al含量,
其中位于p型氮化物基半导体层一侧的梯度-组成的层的远端由AlN制成,
其中,所述紫外发光二极管还包括衬底,n型氮化物基半导体层和p型氮化物基半导体层以及有源区设置在衬底上。
6.根据权利要求5的紫外发光二极管,进一步包括:
二元氮化物半导体的调节层,位于有源区和n型氮化物基半导体层之间,且邻接所述有源区。
7.根据权利要求6的紫外发光二极管,其中邻接所述有源区的调节层由AlN制成。
8.根据权利要求5的紫外发光二极管,其中所述多个阻挡层和所述多个阱层由AlInGaN或AlGaN制成。
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