[发明专利]适用于多基因型的西瓜体细胞胚高效诱导及植株再生方法

摘要

本发明公开了适用于多基因型的西瓜体细胞胚高效诱导及植株再生方法，所述方法包括前处理、愈伤组织的诱导、体细胞胚的诱导、完整植株的形成、炼苗和移栽步骤。在前处理过程中，所用植物生长调节剂为浓度为0.01-0.1mg/L的TDZ；在愈伤组织的诱导和体细胞胚的诱导过程中，所用生长调节剂为6-BA和IAA，6-BA的浓度为2-4mg/L，IAA的浓度为0.01-0.5mg/L。本发明不仅适用于多基因型的西瓜体细胞诱导，还具有愈伤组织诱导率高、体细胞胚诱导率高、每外植体的体细胞胚数目多、实施步骤简单，实施条件不苛刻的优点。

主权项

适用于多基因型的西瓜体细胞胚高效诱导及植株再生方法，其特征在于：包括以下步骤：前处理：将西瓜种子剥去种皮后进行灭菌，再将种胚接种在含TDZ的MS培养基进行培养，每瓶接种8粒，接种后先置于黑暗条件下培养3 d，培养温度为23‑27℃，再转移到光照时间为16 h/d的条件培养3 d，培养温度为23‑27℃，光照强度为3000 lx，TDZ的浓度为0‑0.1 mg/L，培养基中添加30 g/L的蔗糖和6.0 g/L的琼脂，pH值调至6；愈伤组织的诱导：切取子叶外植体，放入含6‑BA和 IAA的1/2 MS培养基中，先置于黑暗条件下培养7 d，再转移到光照时间为16 h/d的条件培养14 d，培养温度为23‑27℃，光照强度为3000 lx，6‑BA的浓度为2‑4mg/L，IAA的浓度为0.01‑0.5mg/L，培养基中添加30 g/L的蔗糖和6.0 g/L的琼脂，pH值调至6；体细胞胚的诱导：将步骤2）所得愈伤组织放入含6‑BA和 IAA的1/2 MS培养基中，在光照时间为16 h/d的条件培养28 d获得体细胞胚，培养温度为23‑27℃，光照强度为3000 lx，6‑BA的浓度为2‑4mg/L，IAA的浓度为0.01‑0.5mg/L，培养基中添加30 g/L的蔗糖和6.0 g/L的琼脂，pH值调至6；完整植株的形成：将步骤3）所得的体细胞胚放入装有不含激素的1/2 MS培养基的培养瓶中进行培养，培养时间为28 d，培养温度为23‑27℃，光照强度为3000 lx，光照时间为16 h/d，培养基中添加30 g/L的蔗糖和6.0 g/L的琼脂，pH值调至6；5）炼苗：选取经步骤4）培养后的具有3个以上叶片和5‑6 cm强直根的健壮小苗，将培养瓶的盖子先拧松放置2 d，再半开2 d，然后再全开2 d，半开和全开盖子期间需要不断补充水分；6）移栽：将炼苗完成后的植株拔起，用水洗净根部培养基，移栽到装有泥炭土、珍珠岩、草木灰和腐叶土基质的营养钵中，在23‑27℃下，套上保鲜袋置于人工气候箱中保湿培养，1‑2周后再移到室外进行培养。