[发明专利]磁记录介质及磁存储装置在审

专利信息
申请号: 201410558092.5 申请日: 2014-10-20
公开(公告)号: CN104575530A 公开(公告)日: 2015-04-29
发明(设计)人: 张磊;神边哲也;村上雄二;丹羽和也 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: G11B5/66 分类号: G11B5/66
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 丁香兰;孟伟青
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供磁记录介质及磁存储装置。一种磁记录介质,其包括基板;磁性层,其以具有L10型晶体结构的合金为主成分;以及多个衬底层,其布置在所述基板与所述磁性层之间。所述多个衬底层包括至少一个结晶衬底层,所述结晶衬底层具有(100)取向,并且包括W来作为主成分、以及选自由Fe、Ni、Co、Hf、Zr、Y、Be、Ce、La、及Sc组成的群组的一种或多种元素。
搜索关键词: 记录 介质 存储 装置
【主权项】:
一种磁记录介质,其特征在于,包括:基板;磁性层,其以具有L10型晶体结构的合金为主成分;以及多个衬底层,其布置在所述基板与所述磁性层之间,所述多个衬底层包括至少一个结晶衬底层,所述结晶衬底层具有(100)取向,并且包括W来作为主成分、以及选自由Fe、Ni、Co、Hf、Zr、Y、Be、Ce、La、及Sc组成的群组的一种或多种元素。
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